[实用新型]镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜设备，用于给基板镀膜，其特征在于，所述镀膜设备包括：

第一中频镀膜室，包括第一中频靶底板和第一靶材，所述第一中频靶底板设有两个，两个所述第一中频靶底板错开设置且存在第一间隔，每一所述第一中频靶底板设有第一靶材，基板能够从所述第一间隔穿过；及

伸缩件，连接于所述第一中频靶底板，且能够带动所述第一靶材靠近或者远离基板，以使所述第一靶材给基板镀膜。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述伸缩件被液压缸驱动，或者被凸轮机构驱动，或者被滚珠丝杠机构驱动，或者被螺纹传动机构驱动。

3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第二中频镀膜室，第二中频镀膜室连接于所述第一中频镀膜室，所述第二中频镀膜室设有两个第二中频靶底板，两个所述第二中频靶底板错开设置且存在第二间隔，每一所述第二中频靶底板设有第二靶材；基板能够从所述第一间隔进入所述第二间隔，以使所述第二靶材能够对基板镀膜。

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第一直流镀膜室和连接于所述第一直流镀膜室的第二直流镀膜室，所述第一直流镀膜室和所述第二直流镀膜室用于给基板镀膜，所述第一直流镀膜室与所述第二中频镀膜室连接；基板能够从所述第二中频镀膜室依次进入所述第一直流镀膜室和所述第二直流镀膜室。

5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，还包括隔离室，所述隔离室位于所述第二中频镀膜室和所述第一直流镀膜室之间，基板能够从所述第二中频镀膜室经所述隔离室且进入所述第一直流镀膜室。

6.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第一缓冲室和连接于所述第一缓冲室的第一过渡室，所述第一缓冲室和所述第一过渡室用于预热基板，所述第一过渡室连接于所述第一中频镀膜室；基板能够从所述第一缓冲室经所述第一过渡室且进入所述第一中频镀膜室，以对预热的基板镀膜。

7.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第二缓冲室和连接于所述第二缓冲室的第二过渡室，所述第二缓冲室和所述第二过渡室用于冷却基板，所述第二过渡室连接所述第二直流镀膜室；基板能够从所述第二直流镀膜室经过所述第二过渡室进入所述第二缓冲室，以冷却已镀膜的基板。

8.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，还包括真空泵和连接于所述真空泵管的抽气管道，所述抽气管道连接于所述第一中频镀膜室，所述真空泵能够通过抽气管道抽出所述第一中频镀膜室内的空气。

9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，所述抽气管道的材质为不锈钢。

10.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，还包括导向装置，所述导向装置包括传送带，所述传送带连接所述第一中频镀膜室和所述第二中频镀膜室，且依次穿过所述第一间隔和所述第二间隔，基板能够沿着所述传送带移动。