[实用新型]一种低温旋转型石英等离子表面处理装置

说明书

本实用新型公开了一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：包括表面处理箱，表面处理箱的箱口设置有密封门，表面处理箱内设置有转动件，转动件的转动端可拆卸连接有放置样品的旋转腔体；表面处理箱内设置有喷出端朝向旋转腔体开口设置的等离子处理器，表面处理箱外设置有抽气泵，抽气泵的抽气口与表面处理箱内连通。通过采用上述设置，具有旋转腔体可安装和旋转，利用等离子处理器产生的等离子体可处理不规则颗粒样品的优点。

技术领域

本实用新型涉及等离子表面处理的技术领域，具体涉及一种低温旋转型石英等离子表面处理装置。

背景技术

等离子处理器利用高压电源在一定的压力条件下对气体施加足够的能量，在温度不断上升过程中，气体中原子的电子从原子钟剥离出来，成为带正电荷的原子核和带负电荷的电子，这个过程称为原子的电离，电离过程的发生，形成了等离子体。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子处理样品是进行后续加工的一项重要基础工作，属于一种常规技术手段。

传统的等离子处理的腔体都是不旋转的，产生的等离子体通常是从上往下进行处理，便于处理表面有规则的样品，例如玻璃基片等，需要固定一个表面来进行处理。对于一些粉末、小颗粒等形状不规则样品，如石墨烯粉末、金属氧化物粉末等样品通常是成堆堆积的，无法固定一个表面，且等离子无法处理到位于堆积粉末下方的粉末颗粒，因此无法满足等离子处理的使用要求，即使是反复处理几次，也无法均匀完整地处理堆积的粉末样品，进而影响后续加工的效果。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种可处理不规则颗粒样品的低温旋转型石英等离子表面处理装置。

本实用新型的目的通过以下技术方案实现：

一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，包括表面处理箱，所述表面处理箱的箱口设置有密封门，所述表面处理箱内设置有转动件，所述转动件的转动端可拆卸连接有放置样品的旋转腔体；所述表面处理箱内设置有喷出端朝向旋转腔体开口设置的等离子处理器，所述表面处理箱外设置有抽气泵，所述抽气泵的抽气口与表面处理箱内连通。

进一步的，所述表面处理箱内固定连接有隔板，所述隔板平面垂直于所述表面处理箱的底面设置，所述转动件包括电机，所述电机的驱动端贯穿所述隔板设置，且所述电机驱动端固定连接有与所述旋转腔体的底面插接的安装块，所述旋转腔体的开口朝上设置。

进一步的，所述隔板与所述旋转腔体之间设置有与隔板连接的支撑盘，所述电机的驱动端贯通所述支撑盘设置，所述支撑盘朝向所述旋转腔体的顶面转动连接有若干滚珠，所述滚珠与所述旋转腔体抵接。

进一步的，所述隔板开设有滑槽，所述滑槽滑动连接有滑块，所述滑块远离所述隔板的一端设置有圆柄块，所述旋转腔体的底面开设有绕电机转轴呈圆周方向延伸的环槽，所述旋转腔体的底面开设有与环槽和旋转腔体的外周面相连通的直槽，所述圆柄块与所述直槽和环槽滑动连接。

进一步的，当滑动所述滑块至所述圆柄块与环槽滑动连接时，所述滑槽插接有固定块，所述固定块与滑槽的槽内壁和滑块抵接。

进一步的，所述表面处理箱设置有控制电机转速的控制旋钮。

进一步的，当所述表面处理装置工作时，所述等离子处理器产生的等离子体的射频频率为13.56MHz。

进一步的，当所述表面处理装置工作时，所述旋转腔体的工作温度小于三十二摄氏度。

本实用新型具有如下有益效果：