[实用新型]一种低温旋转型石英等离子表面处理装置

权利要求书

1.一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：包括表面处理箱，所述表面处理箱的箱口设置有密封门，所述表面处理箱内设置有转动件，所述转动件的转动端可拆卸连接有放置样品的旋转腔体；所述表面处理箱内设置有喷出端朝向旋转腔体开口设置的等离子处理器，所述表面处理箱外设置有抽气泵，所述抽气泵的抽气口与表面处理箱内连通。

2.根据权利要求1所述的一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：所述表面处理箱内固定连接有隔板，所述隔板平面垂直于所述表面处理箱的底面设置，所述转动件包括电机，所述电机的驱动端贯穿所述隔板设置，且所述电机驱动端固定连接有与所述旋转腔体的底面插接的安装块，所述旋转腔体的开口朝上设置。

3.根据权利要求2所述的一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：所述隔板与所述旋转腔体之间设置有与隔板连接的支撑盘，所述电机的驱动端贯通所述支撑盘设置，所述支撑盘朝向所述旋转腔体的顶面转动连接有若干滚珠，所述滚珠与旋转腔体抵接。

4.根据权利要求3所述的一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：所述隔板开设有滑槽，所述滑槽滑动连接有滑块，所述滑块远离所述隔板的一端设置有圆柄块，所述旋转腔体的底面开设有绕电机转轴呈圆周方向延伸的环槽，所述旋转腔体的底面开设有与环槽和旋转腔体的外周面相连通的直槽，所述圆柄块与所述直槽和环槽滑动连接。

5.根据权利要求4所述的一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：当滑动所述滑块至所述圆柄块与环槽滑动连接时，所述滑槽插接有固定块，所述固定块与滑槽的槽内壁和滑块抵接。

6.根据权利要求2所述的一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：所述表面处理箱设置有控制电机转速的控制旋钮。

7.根据权利要求1所述的一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：当所述表面处理装置工作时，所述等离子处理器产生的等离子体的射频频率为13.56MHz。

8.根据权利要求1所述的一种低温旋转型石英等离子表面处理装置，其特征是：当所述表面处理装置工作时，所述旋转腔体的工作温度小于三十二摄氏度。