[实用新型]一种纳米真空镀膜仪

说明书

本实用新型公开了一种纳米真空镀膜仪，包括机架，机架上固设有真空室，真空室内顶部设有基片台、内底部对应于基片台的下方位置设有蒸发源；真空室上端开口，并在该开口处设有启闭的上盖，上盖上设有旋转电机，旋转电机与基片台连接，且旋转电机的中心线与基片台的中心线重合；真空室外部两侧设有自动伸缩杆，自动伸缩杆的上端与上盖铰接、下端与机架铰接；上盖在盖合时，自动伸缩杆处于收缩状态；真空室与抽真空机组相连。通过旋转电机可带动基片台转动，使基片台上的待镀工件镀膜更均衡；自动伸缩杆的使用，手工打开锁扣后，自动将上盖上翻，极大的方便了设备的清洗保养工作，节省了人力，提高了工作效率。

技术领域

本实用新型涉及镀膜仪器技术领域，尤其涉及一种纳米真空镀膜仪。

背景技术

真空热蒸发镀膜技术被广泛应用于有机EL(Electro Luminescence)显示器等平板显示器的制造领域，该技术在相应薄膜器件产业化中的应用也十分广泛。其基本原理是利用加热的手段使待形成薄膜的原材料受热蒸发，由凝聚相变成气相，原材料的分子或原子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到基板(衬底)表面，最终蒸发的分子或原子在基板(衬底)上沉积，凝结形成固态薄膜。

目前的纳米真空镀膜仪上盖的打开比较繁琐，需要几个人合作一起抬着搬下来，需要耗费很大的力气，不利于对真空室的维护保养。同时存在着整体镀膜品质不高的问题。

实用新型内容

为克服上述缺点，本实用新型的目的在于提供一种纳米真空镀膜仪，通过对其结构的改善，提高提高整体的镀膜品质，降低劳动强度。

为了达到以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种纳米真空镀膜仪，包括机架，所述机架上固定设置有真空室，所述真空室内顶部设置有基片台、内底部对应于基片台的下方位置设置有蒸发源；所述真空室上端开口，并在该开口处设置有启闭的上盖，所述上盖上设置有旋转电机，所述旋转电机与基片台连接，且旋转电机的中心线与基片台的中心线重合；所述真空室外部两侧设置有自动伸缩杆，所述自动伸缩杆的上端与上盖铰接、下端与机架铰接；上盖在盖合时，所述自动伸缩杆处于收缩状态；所述真空室与抽真空机组相连。

进一步来说，所述蒸发源包括用于放置蒸发镀膜材料的蒸发坩埚、用于给蒸发坩埚加热的钨丝，所述机架上设置有通过电路控制钨丝加热的控温仪表。

进一步来说，所述抽真空机组包括与真空室导通相连的真空管路，所述真空管路的末端设置有机械泵，所述真空管路上设置有闸板阀。

进一步来说，所述抽真空机组还包括预抽管路，所述预抽管路的一端与真空室导通、另一端与机械泵的进气口导通，所述预抽管路上设置有预抽阀，所述真空管路上设置有分子泵，所述分子泵位于闸板阀与机械泵之间。

采用两级抽真空，打开预抽阀、关闭闸板阀、启动机械泵，对真空室进行第一次抽真空，抽真空一段时间后，打开闸板阀、关闭预抽阀，启动分子泵，对真空室进行二次抽真空，采用上述抽真空方式其抽真空效果更佳。

进一步来说，所述真空室设置有观察窗，方便观察真空室内情况。

进一步来说，所述上盖一端铰接在真空室的开口处、另一端通过锁扣与真空室相连。上盖采用翻转的形式盖合在真空室的开口处。

本实用新型通过旋转电机可带动基片台转动，使基片台上的待镀工件镀膜更均衡；采用两级抽真空，提高了对真空室的抽真空效果，提高镀膜品质；自动伸缩杆的使用，手工打开锁扣后，自动将上盖上翻，极大的方便了设备的清洗保养工作，节省了人力，提高了工作效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图(缺少抽真空机组)。

图2为本实用新型实施例中真空室、抽真空机组配合结构示意图。

图中：