[实用新型]一种具有清洁结构的单晶硅片抛光机

说明书

本实用新型属于单晶硅片抛光机领域，具体为一种具有清洁结构的单晶硅片抛光机，包括抛光机构，所述抛光机构包括抛光机、抛光盘，所述抛光机顶部设有所述抛光盘，所述抛光机构上设有位移机构，所述位移机构上设有清洁机构，所述清洁机构包括伸缩气缸、连接板、清洁支撑架、电机一、清洁刷辊，所述伸缩气缸伸缩杆上设有所述连接板，所述连接板后部焊接有所述清洁支撑架，所述清洁支撑架上且位于所述连接板一侧设有所述电机一，所述电机一输出轴上设有所述清洁刷辊，所述清洁刷辊一侧设有水管，所述水管底部均匀分布有喷水嘴。本实用新型采用清洁机构和位移机构，从而可以对单晶硅片抛光机进行清洁，因此使用方便。

技术领域

本实用新型属于单晶硅片抛光机领域，具体是涉及一种具有清洁结构的单晶硅片抛光机。

背景技术

单晶硅和多晶硅的区别是，当熔融的单质硅凝固时，硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核，如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒，则形成单晶硅。如果这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则形成多晶硅。多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。例如在力学性质、电学性质等方面，多晶硅均不如单晶硅。多晶硅可作为拉制单晶硅的原料。单晶硅可算得上是世界上最纯净的物质了，一般的半导体器件要求硅的纯度六个9以上。大规模集成电路的要求更高，硅的纯度必须达到九个9。人们已经能制造出纯度为十二个9的单晶硅。单晶硅是电子计算机、自动控制系统等现代科学技术中不可缺少的基本材料。

现有的单晶硅片抛光机，不方便清洁，因此使用不便。

需要说明的是，公开于本实用新型背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的问题，本实用新型采用清洁机构和位移机构，从而可以对单晶硅片抛光机进行清洁，因此使用方便。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种具有清洁结构的单晶硅片抛光机，包括抛光机构，所述抛光机构包括抛光机、抛光盘，所述抛光机顶部设有所述抛光盘，所述抛光机构上设有位移机构，所述位移机构上设有清洁机构，所述清洁机构包括伸缩气缸、连接板、清洁支撑架、电机一、清洁刷辊，所述伸缩气缸伸缩杆上设有所述连接板，所述连接板后部焊接有所述清洁支撑架，所述清洁支撑架上且位于所述连接板一侧设有所述电机一，所述电机一输出轴上设有所述清洁刷辊，所述清洁刷辊一侧设有水管，所述水管底部均匀分布有喷水嘴。

在上述技术方案的基础上，所述位移机构包括支撑板、直线电机滑轨、直线电机动子座，所述抛光机前部设有所述支撑板，所述支撑板上方设有所述直线电机滑轨，所述直线电机滑轨上设有所述直线电机动子座。

在上述技术方案的基础上，所述位移机构包括支撑板、电机二、丝杠、位移块、位移支架，所述抛光机前部设有所述支撑板，所述支撑板顶部设有所述位移支架，所述位移支架一侧设有所述电机二，所述电机二输出轴上设有所述丝杠，所述丝杠上通过螺纹连接有所述位移块。

在上述技术方案的基础上，所述清洁刷辊与所述清洁支撑架转动连接，所述清洁支撑架支撑所述清洁刷辊转动。

在上述技术方案的基础上，所述连接板与所述伸缩气缸通过螺钉连接，所述连接板和所述伸缩气缸连接紧固。

在上述技术方案的基础上，所述伸缩气缸呈垂直设置，所述伸缩气缸可以带动所述连接板和所述清洁支撑架垂直升降。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：