[实用新型]一种高节能高效率纳米真空镀膜仪有效

专利信息
申请号: 202020211203.6 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN211689204U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 王宁 申请(专利权)人: 苏州泓沵达仪器科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 汪建华
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 节能 高效率 纳米 真空镀膜
【说明书】:

实用新型公开了高节能高效率纳米真空镀膜仪,包括蒸发源,蒸发源包括具有蒸发腔的柱形坩埚,柱形坩埚的顶部设有盖体,盖体上开设有出气口,柱形坩埚的内底面设有第一凸台,柱形坩埚的外底面上设有凹槽,柱形坩埚的上端内壁为锥形面,盖体的外边缘依次设有相连接的三个环形板,三个环形板分别与柱形坩埚的锥形面、上端面及上端外壁紧密贴合。通过在柱形坩埚内设置第一凸台,在进行真空蒸镀时,能增大蒸发材料与柱形坩埚的受热面积,以提高蒸发效率;柱形坩埚上设有锥形面,盖体上设置多个环形板分别与柱形坩埚的上端紧密贴合,有利于提高柱形坩埚与盖体边缘连接的密封性能,使蒸发后的气体仅从出气口射出,防止沉积到其他位置造成材料的浪费。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀设备技术领域,具体涉及一种高节能高效率纳米真空镀膜仪。

背景技术

纳米真空镀膜仪可以对蒸镀的源材料进行高精度控温,常常用于纳米级薄膜材料和纳米器件的制备。在蒸镀的过程中,蒸发源内的蒸镀材料被加热到一定温度发生蒸发或升华,蒸汽从坩埚上升并沉积到目标基板表面形成薄膜。

现有常用的纳米真空蒸发源的坩埚为U形的,因开口完全敞开,所以散射面较大,在蒸镀时有一部分的纳米材料会沉积在其他位置,容易造成材料浪费。如果做成小口径的U形坩埚会缩小坩埚的容量,可能会造成坩埚装载量不够的问题。

实用新型内容

为解决上述技术缺陷,本实用新型采用的技术方案在于,提供一种高节能高效率纳米真空镀膜仪,包括蒸发源,所述蒸发源包括具有蒸发腔的柱形坩埚,所述柱形坩埚的顶部设有开口,开口上可拆卸设有盖体,所述盖体上开设有出气口,所述柱形坩埚的内底面设有第一凸台,所述柱形坩埚的外底面上与第一凸台对应的位置设有凹槽,所述柱形坩埚的上端内壁为下窄上宽的锥形面,所述盖体的外边缘依次设有相连接的第一环形板、第二环形板以及第三环形板,所述第一环形板与锥形面紧密贴合,所述第二环形板与柱形坩埚的上端面紧密贴合,所述第三环形板与柱形坩埚的上端外壁紧密贴合。

进一步地,所述柱形坩埚的底部设有加热垫,所述加热垫的上表面设有第二凸台,所述第二凸台与凹槽嵌入贴合。

进一步地,所述盖体上设有喇叭形导气片,所述出气口设置在喇叭形导气片上,所述喇叭形导气片的上端宽下端窄。

进一步的,所述加热垫的外部设有热屏蔽罩,所述热屏蔽罩的上端套设在柱形坩埚的下端。

进一步地,所述柱形坩埚的外壁设有第一螺旋槽,所述第一螺旋槽内安装有螺旋加热丝。

进一步地,所述柱形坩埚的外壁设有第二螺旋槽,所述第二螺旋槽内安装有螺旋冷却带,所述第一螺旋槽与第二螺旋槽同向延伸且间隔设置。

与现有技术比较本实用新型技术方案的有益效果为:

1、本实用新型提供的一种高节能高效率纳米真空镀膜仪,通过在柱形坩埚内设置第一凸台,在进行真空蒸镀时,能增大蒸发材料与柱形坩埚的受热面积,以提高蒸发效率;柱形坩埚上设有锥形面,盖体上设置多个环形板分别与柱形坩埚的上端紧密贴合,有利于提高柱形坩埚与盖体边缘连接的密封性能,使蒸发后的气体仅从出气口射出,既能保证柱形坩埚的容量,又可以减少柱形坩埚的开口口径,缩小柱形坩埚的散射面,防止沉积到其他位置造成材料的浪费,同时也方便清理。

2、在加热垫的上表面设置第二凸台与柱形坩埚底部的凹槽嵌入贴合,使得柱形坩埚的受力比较均匀,也能保证加热垫加热的稳定性;通过设置热屏蔽罩可以减少热量的散失,能有效将热量集中在热屏蔽罩周围,有利于提高加热垫的加热效率。

3、设置喇叭形导气片对蒸发的气体进行导流,使气流快速喷射到待镀膜的基片上。

4、设置螺旋加热丝可以使柱形坩埚均匀受热,能进一步提高柱形坩埚的蒸发效率;采用螺旋冷却带可以实现对柱形坩埚均匀冷却,有利于提高蒸发源的冷却效果。

附图说明

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