[实用新型]一种高精度平面度检测装置有效
申请号: | 202020206817.5 | 申请日: | 2020-02-25 |
公开(公告)号: | CN211291374U | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 伍玮;罗利娟;钟海;张云飞 | 申请(专利权)人: | 成都威博恩科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/30 | 分类号: | G01B11/30 |
代理公司: | 成都中汇天健专利代理有限公司 51257 | 代理人: | 刘雨田 |
地址: | 61000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高精度 平面 检测 装置 | ||
本实用新型公开了一种高精度平面度检测装置,包括检测箱体、平面度计算模块、匀光模块和取像模块,检测箱体顶壁开有卡口,卡口处卡设有平面平晶,所述匀光模块和取像模块设于检测箱体内,匀光模块包括光源罩和设于光源罩中的三色干涉光源,光源罩顶壁为匀光板;取像模块包括若干个CCD网络相机,CCD网络相机朝向平面平晶底部,对平面平晶底部取像;CCD网络相机与平面度计算模块连接。本实用新型检测时平面平晶底部、匀光模块和取像模块均处于封闭的检测箱体内,同时通过多个CCD网络相机取像,能够有效避免外界光环境对匀光和取像的干扰,使干涉条纹的呈现和取像更准确,增加平面度的检测精度。
技术领域
本实用新型涉及平面度检测领域,具体是一种高精度平面度检测装置。
背景技术
平晶干涉法是一种平面度检测方法,用于测量高光洁表面的平面误差。测量时,把被测表面放在平面平晶上,以光源照射平面平晶,光在平面平晶表面反射和被测表面反射回来的光线形成干涉现象,由于被测表面平面度的影响,干涉光线的光程差不同,因此形成干涉条纹。干涉条纹反映被测表面的平面度,通过干涉条纹能够计算被测样品的平面度。
中国专利文件201811427991.6公开了一种航空件超高精度端面平面度检测成像装置及检测方法,包括实木主体盒、平晶托盘、平晶、干涉光源、CCD传感器、万向调节支架和计算机。实木主体盒的底座上设有平面镜,后侧板上设有毛玻璃,左侧板、右侧板和上板的内表面上设有黑色遮光层,上板上设有安装平晶托盘的槽孔;平晶放置在平晶托盘上,干涉光源安装在实木主体盒内,CCD传感器连接万向调节支架、拍摄并发送干涉条纹图像至计算机。该发明通过CCD传感器和万向调节支架,使干涉条纹清晰的呈现在计算机上,弥补了平晶检测平面度时测量结果难以高效准确读取的缺陷,提高零件检测效率和准确度;在实木主体盒内置黑色遮光层,提高光源聚拢性,将反射光对测量效果的影响降至最低,增加了测量结果的准确度。
该现有技术通过平面镜来反射干涉条纹图像,但实际平面镜达不到理想状态,反射成像存在一定像差,且外部光环境可能通过平面镜反射照射平面平晶,对干涉条纹的呈现造成影响,同时外部光环境也可能干扰CCD传感器,对干涉条纹的清晰取像造成影响。此外,现有技术均是通过单个CCD相机取像,而镜头成像存在像差,使得平面度检测精度受到影响。
实用新型内容
本实用新型的目的在于解决现有技术的上述问题,提供了一种高精度平面度检测装置。
本实用新型的目的主要通过以下技术方案实现:
一种高精度平面度检测装置,包括检测箱体、平面度计算模块、匀光模块和取像模块,检测箱体顶壁开有卡口,卡口处卡设有平面平晶,所述匀光模块和取像模块设于检测箱体内,匀光模块包括光源罩和设于光源罩中的三色干涉光源,光源罩顶壁为匀光板;取像模块包括若干个CCD网络相机,CCD网络相机朝向平面平晶底面,对平面平晶底部取像;CCD网络相机与平面度计算模块连接。
优选地,所述检测箱体右侧壁作为光源罩右侧壁,检测箱体右侧壁可下旋朝外打开,三色干涉光源设于检测箱体右侧壁朝内一面上。
优选地,所述平面度计算模块为触屏电脑,触屏电脑安装于检测箱体前壁上。
优选地,所述检测箱体前壁包括从内到外依次设置的隔板和卡框,触屏电脑安装于卡框中。
综上所述,本实用新型具有以下有益效果:检测时平面平晶底部、匀光模块和取像模块均处于封闭的检测箱体内,能够有效避免外界光环境对匀光和取像的干扰,使干涉条纹的呈现和取像更准确。此外通过CCD网络相机对平面平晶直接取像,提高干涉条纹的取像准确度。同时通过多个CCD网络相机取像,平面度计算模块对多个CCD网络相机的干涉条纹图像进行处理,补偿像差,组合得到更为准确的干涉条纹图像并计算,从而提高平面度检测精度。
附图说明
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