[实用新型]一种对正结构有效

专利信息
申请号: 202020199806.9 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN211843275U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 廖广毅;江山 申请(专利权)人: 东莞市宇瞳光学科技股份有限公司
主分类号: B29C65/78 分类号: B29C65/78
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 523000 广东省东莞市长*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构
【权利要求书】:

1.一种对正结构,其特征在于,包括热熔件(11)、对正治具(21)及底座(31),所述热熔件(11)上设有扇环形凸起(12),所述对正治具(21)上设有与所述扇环形凸起(12)对应设置的扇环形凹槽(210),所述扇环形凸起(12)能够卡接于所述扇环形凹槽(210)内,以使所述热熔件(11)定位于所述对正治具(21)上且两者同轴分布,所述对正治具(21)上设有定位凸起(22),所述底座(31)上设有与所述定位凸起(22)对应设置的定位凹槽(310),所述定位凸起(22)能够位于所述定位凹槽(310)内以使所述对正治具(21)与所述底座(31)同轴分布。

2.根据权利要求1所述的对正结构,其特征在于,所述对正治具(21)的一端设有至少两个辅助凸起(23),相邻所述辅助凸起(23)形成所述扇环形凹槽(210),所述扇环形凹槽(210)的个数为至少两个,所述扇环形凸起(12)设于所述热熔件(11)上,所述扇环形凸起(12)与所述扇环形凹槽(210)一一对应设置。

3.根据权利要求2所述的对正结构,其特征在于,至少两个所述辅助凸起(23)沿所述对正治具(21)的周向均匀分布。

4.根据权利要求2所述的对正结构,其特征在于,所述扇环形凹槽(210)沿所述对正治具(21)的中心轴线方向的深度小于所述扇环形凸起(12)沿所述热熔件(11)的中心轴线方向的高度。

5.根据权利要求1所述的对正结构,其特征在于,所述对正治具(21)包括第一对正治具(211)和第二对正治具(212),所述第一对正治具(211)和所述第二对正治具(212)一体成型为所述对正治具(21),所述第一对正治具(211)上设有第一连通孔(2110),所述第二对正治具(212)上设有第二连通孔(21201),所述第一连通孔(2110)的直径小于所述第二连通孔(21201)的直径,所述定位凸起(22)设于所述第二对正治具(212)上。

6.根据权利要求5所述的对正结构,其特征在于,所述第二对正治具(212)的侧壁上设有安装槽(21202),所述安装槽(21202)沿所述第二对正治具(212)的轴向贯穿设置,所述定位凸起(22)设于所述第一对正治具(211)上且位于所述安装槽(21202)内,所述底座(31)上设有扇环形侧壁(32),所述定位凹槽(310)设于所述扇环形侧壁(32)上。

7.根据权利要求6所述的对正结构,其特征在于,所述第二连通孔(21201)的直径大于所述底座(31)的外径,所述定位凸起(22)位于所述定位凹槽(310)内时所述底座(31)能够与所述第一对正治具(211)抵接。

8.根据权利要求6所述的对正结构,其特征在于,所述定位凸起(22)沿所述对正治具(21)的径向分布,且所述定位凸起(22)沿所述对正治具(21)的径向的长度大于所述第二对正治具(212)的壁厚且不小于所述第一对正治具(211)的壁厚。

9.根据权利要求5所述的对正结构,其特征在于,所述定位凹槽(310)沿所述底座(31)的中心轴线方向的深度大于所述定位凸起(22)沿所述对正治具(21)的中心轴线方向的高度。

10.一种热熔机,其特征在于,包括升降组件和如权利要求1-9任一项所述的对正结构,所述热熔件(11)固定连接在所述升降组件上,所述升降组件被配置为能够带动所述热熔件(11)沿所述热熔件(11)的中心轴线方向移动。

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