[实用新型]阴极溅射靶及溅射镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202020191319.8 申请日: 2020-02-21
公开(公告)号: CN212335274U 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 闫海涛;刘亮 申请(专利权)人: 布勒莱宝光学设备(北京)有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阴极 溅射 镀膜 装置
【说明书】:

实用新型属于真空镀膜技术领域,提供一种阴极溅射靶、溅射镀膜装置,包括:至少两个旋转阴极,所述旋转阴极上安装有旋转靶;阴极安装腔,用于安装所述旋转阴极;溅射用容纳壳体,所述阴极安装腔、所述旋转阴极分别设置在所述溅射用容纳壳体内;驱动组件,所述驱动组件驱动阴极安装腔沿溅射用容纳壳体轴心线旋转;所述溅射用容纳壳体一端设置有工作侧密封面,另一端设置有维护门,所述工作侧密封面上设置有开口。从而实现在镀膜过程中同一真空环境下阴极更换及满足多种材料形成镀膜的实际需求。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种阴极溅射靶及溅射镀膜装置。

背景技术

溅射镀膜技是指在真空状态下,用离子轰击靶材表面,把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基片表面形成膜称为溅射镀膜。溅射镀膜通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体,击出阴极靶体原子或分子,飞向被镀基体表面沉积成薄膜。

常规阴极溅射靶是用一块平面金属靶材溅射到基板上成膜,即平面金属靶材安装在镀膜机的阴极管上,等离子体轰击金属靶材碰撞出金属原子,逸出的原子按照一定方向沉积在玻璃基板上形成一定厚度的膜层。一般每个溅射靶只能包含一种材质的金属靶材,并且在镀膜过程中不能更换靶材,无法满足使用多种材料形成镀膜的实际需求。平面金属靶四个角的腐蚀最快,靶材利用率低,如果靶材需要更换时,需要将整个阴极溅射靶取出,而且其他正在使用的靶材也需要被取出来,操作非常繁琐,镀膜速率低。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型提供一种阴极溅射靶、溅射镀膜装置,从而实现在镀膜过程中不破坏真空环境下溅射阴极的更换,同时满足同一真空环境下多种材料形成镀膜的实际需求。

为了实现上述目的,本实用新型提供的技术方案包括:

本实用新型第一方面提供一种阴极溅射靶,包括:

至少两个旋转阴极,所述旋转阴极上安装有旋转靶;

阴极安装腔,用于安装所述旋转阴极;

溅射用容纳壳体,所述阴极安装腔、所述旋转阴极分别设置在所述溅射用容纳壳体内;

驱动组件,所述驱动组件驱动阴极安装腔沿溅射用容纳壳体轴心线旋转;

所述溅射用容纳壳体一端设置有工作侧密封面,另一端设置有维护门,所述工作侧密封面上设置有开口。

本实用新型优选的实施方式中,所述溅射靶包括一个阴极安装腔,所述阴极安装腔的轴心与溅射用容纳壳体轴心重合。

本实用新型进一步优选的实施方式中,所述旋转阴极至少包括第一旋转阴极、第二旋转阴极;所述第一旋转阴极和所述第二旋转阴极分别安装在阴极安装腔的异侧;所述第一旋转阴极位于所述工作侧密封面上的开口处时,所述第二旋转阴极位于所述维护门处。

本实用新型进一步优选的实施方式中,所述的阴极溅射靶包括多个阴极安装腔,所述多个阴极安装腔分布在以溅射用容纳壳体轴心线为轴的同心圆上。

本实用新型进一步优选的实施方式中,所述阴极安装腔至少包括第一阴极安装腔、第二阴极安装腔;所述旋转阴极至少包括第一旋转阴极、第二旋转阴极;所述第一旋转阴极和所述第二旋转阴极分别被安装在第一阴极安装腔上、第二阴极安装腔上。

本实用新型优选的实施方式中,所述驱动组件包括阴极安装腔顶部驱动组件和阴极安装腔底部驱动组件;所述阴极安装腔顶部驱动组件包括驱动电机和驱动轴,所述驱动电机带动驱动轴旋转,所述驱动轴与所述阴极安装腔顶端连接;所述阴极安装腔底部驱动组件包括旋转轴,与阴极安装腔底端连接;所述阴极安装腔顶部驱动组件带动所述阴极安装腔底部驱动组件旋转。

本实用新型优选的实施方式中,所述第一旋转阴极与所述第二旋转阴极材质相同或材质不同。

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