[实用新型]基板处理装置和基板处理系统

说明书

本实用新型提供基板处理装置和基板处理系统。使光学检测供向基板供给的流体流通的供给路径中的异物的基板处理装置小型化。基板处理装置包括：供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及异物检测单元，所述供给路径的局部构成流路形成部，该异物检测单元利用投光部形成有朝向该流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其中，所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右前后的区域中的不相对的区域。

技术领域

本实用新型涉及基板处理装置和基板处理系统。

背景技术

在半导体器件的制造工序中，通过向作为圆形的基板的半导体晶圆(以下记载为晶圆)供给各种各样的处理液来进行处理。研究通过检测该处理液中的异物，从而抑制晶圆中的缺陷的发生。在专利文献1中，记载有一种包括用于向晶圆供给抗蚀剂的配管和介于该配管的作为液中微粒计数器的传感器部的液体处理装置。

专利文献1：日本特开平5－251328号公报

实用新型内容

实用新型要解决的问题

本实用新型提供一种能够使光学检测供向基板供给的流体流通的供给路径中的异物的基板处理装置小型化的技术。

用于解决问题的方案

本实用新型的基板处理装置包括：

供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及

异物检测单元，所述供给路径的局部构成流路形成部，该异物检测单元利用投光部形成有朝向该流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其中，

所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右前后的区域中的不相对的区域。

优选的是，该基板处理装置包括：流路形成部的列，在该流路形成部的列中，相对于一个所述流路形成部在与朝向所述投光部所位于的一侧的方向以及朝向所述受光部所位于的一侧的方向不同的第1方向上成列地设有一个以上的其他的流路形成部；以及移动机构，所述受光部和所述投光部共用于多个所述流路形成部，该移动机构以所述投光部和所述受光部向与多个所述流路形成部中的被选择的流路形成部相对应的位置移动的方式，使所述投光部和所述受光部沿着所述流路形成部的列在第1方向上移动。

优选的是，所述移动机构构成为，能够在与第1方向不同的第2方向上移动，从而改变来自所述投光部的光所朝向的流路形成部与所述受光部之间的距离。

优选的是，所述移动机构在使所述投光部和所述受光部在第1方向上移动而移动到与所述被选择的流路形成部相对应的位置时，使所述投光部和所述受光部在第2方向上移动，以成为自所述被选择的流路形成部到利用所述受光部接受光为止的预先设定的受光距离。

优选的是，在将所述投光部设为第1投光部时，该基板处理装置还包括朝向所述第1投光部投光的第2投光部，所述第2投光部以朝向所述第1投光部的光的光路沿着多个所述流路形成部成列的方向的方式设置，所述第1投光部包括反射部，该反射部反射来自所述第2投光部的光并使光照到所述流路形成部。

优选的是，所述流路形成部包括内部的流路的入口和出口，所述入口和所述出口设为，以所述流路形成部为基准成为与所述投光部的位置和所述受光部的位置不同的朝向。

优选的是，所述流路形成部为方形的六面体的形状，所述入口和所述出口设于所述流路形成部的同一面。

优选的是，所述流路形成部的流路至少具有与其他流路交叉的多个部分流路，所述多个部分流路的交叉部具有曲率。