[实用新型]一种新型带钢真空镀膜设备

说明书

本实用新型提供一种新型带钢真空镀膜设备，属于带钢加工技术领域。所述的新型带钢真空镀膜设备，包括依次连通的第一真空压差室、预热室、镀膜室、冷却室、第二真空压差室，所述镀膜室包括第一镀膜室和第二镀膜室，所述第一镀膜室设有对带钢一面进行镀膜的第一镀膜机构，所述第二镀膜室沿带钢水平运行方向的下方设有若干导向辊，带钢与设于水平线上的导向辊水平相切，并与设于下方的各个导向辊连接形成容纳空间，所述容纳空间内设有第二镀膜机构。本申请是针对典型带钢镀膜工艺的真空镀膜设备提出了一个新的设计方案，使设备的各个真空室都安装在同一水平面上，降低了设备安装高度，方便了操作和维修，减少了导向辊的数量，降低了生产成本。

技术领域

本实用新型属于带钢加工技术领域，具体涉及一种新型带钢真空镀膜设备。

背景技术

随着电子束技术的发展与普及，连续化、大面积、高速度、大规模的带钢电子束连续真空镀膜正在变成了一种代替热浸镀、电镀成为带钢外表面处理的技术手段。电子束带钢真空镀膜工艺与其相比具有以下优点：可选择的镀膜材料丰富不受材料熔点的约束。环境污染小。能取得纯度高、均匀、很薄的膜层。耐蚀性和附着力好。能够依据使用者要求灵活地在带钢上镀制单面、双面、单层、多层、混合、复合等膜层。

典型的连续式双面带钢(大气到大气)真空镀膜段的工艺工作过程(附图4) 为：清洗后的带钢20—→真空压差室21—→预热(预处理)室22(第一电子枪 29对带钢进行加热预处理)—→第一镀膜室23(第二电子枪30扫描坩埚对带钢一侧表面进行镀膜)—→带钢翻转24—→第二镀膜室25(第三电子枪31扫描坩埚对带钢另一侧表面进行镀膜)—→冷却室26—→压差室27—→镀膜后带钢28。

在电子束镀膜工艺中由于坩埚安装位置的局限性决定了带钢在镀膜过程中必须是被镀膜表面向下朝向坩埚，带钢双面镀膜也就是带钢的每一个面都要有一个向下朝向坩埚的镀膜过程。因此，在带钢双面连续镀膜过程中必须有一个带钢翻转的过程，一般是带钢镀膜室镀完一面后通过导向辊翻转后再进行另一面的镀膜操作，这就造成两个问题，一个是各个真空室的真空抽气系统不能布置在同一个水平面上，另一个是如果带钢不再进行翻转和多次换向，带钢镀膜的进口和出口都在设备的同一端。解决这两个问题对设备制造及使用提出了更高的要求。

实用新型内容

本实用新型通过提供一种新型带钢真空镀膜设备，以解决上述技术问题。

为实现上述目的，本实用新型的技术解决方案是：

一种新型带钢真空镀膜设备，包括依次连通的第一真空压差室、预热室、镀膜室、冷却室、第二真空压差室，所述镀膜室包括设于同一水平面上的第一镀膜室和第二镀膜室，所述第一镀膜室设有对带钢一面进行镀膜的第一镀膜机构，所述第二镀膜室沿带钢水平运行方向的下方设有若干导向辊，带钢与设于水平线上的导向辊水平相切，并与设于下方的各个导向辊连接形成容纳空间，所述容纳空间内设有对带钢另一面进行镀膜的第二镀膜机构。

优选地，所述第一镀膜室中镀膜设备包括第一电子枪和第一坩埚，所述第一坩埚设于带钢水平线下方，第一电子枪设于第一坩埚的上方水平放置并射出电子束对第一坩埚进行加热。

优选地，所述第二镀膜室中容纳空间呈上窄下宽结构。

优选地，所述容纳空间为由四根导向辊构成的梯形结构，上面两根导向辊之间的间距小于下面两根导向辊之间的间距，带钢与四根导向辊形成左上-左下- 右下-右上依次连接，使上面两根导向辊之间留有缝隙。

优选地，所述第二镀膜机构包括第二电子枪和第二坩埚，所述第二坩埚设于容纳空间内，所述第二电子枪设于所述容纳空间上方竖直放置，向下射出的电子束从上面两根导向辊之间的缝隙穿过对第二坩埚进行加热。

优选地，所述第一电子枪和第二电子枪为磁偏转电子枪。

优选地，所述第一真空压差室和第二真空压差室处于同一水平线上。