[实用新型]一种新型带钢真空镀膜设备

权利要求书

1.一种新型带钢真空镀膜设备，包括依次连通的第一真空压差室、预热室、镀膜室、冷却室、第二真空压差室，其特征在于，所述镀膜室包括设于同一水平面上的第一镀膜室和第二镀膜室，所述第一镀膜室设有对带钢一面进行镀膜的第一镀膜机构，所述第二镀膜室沿带钢水平运行方向的下方设有若干导向辊，带钢与设于水平线上的导向辊水平相切，并与设于下方的各个导向辊连接形成容纳空间，所述容纳空间内设有对带钢另一面进行镀膜的第二镀膜机构。

2.根据权利要求1所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜室中镀膜设备包括第一电子枪和第一坩埚，所述第一坩埚设于带钢水平线下方，第一电子枪设于第一坩埚的上方水平放置并射出电子束对第一坩埚进行加热。

3.根据权利要求2所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第二镀膜室中容纳空间呈上窄下宽结构。

4.根据权利要求3所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述容纳空间为由四根导向辊构成的梯形结构，上面两根导向辊之间的间距小于下面两根导向辊之间的间距，带钢与四根导向辊形成左上-左下-右下-右上依次连接，使上面两根导向辊之间留有缝隙。

5.根据权利要求4所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第二镀膜机构包括第二电子枪和第二坩埚，所述第二坩埚设于容纳空间内，所述第二电子枪设于所述容纳空间上方竖直放置，向下射出的电子束从上面两根导向辊之间的缝隙穿过对第二坩埚进行加热。

6.根据权利要求5所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第一电子枪和第二电子枪为磁偏转电子枪。

7.根据权利要求1-6任一项所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第一真空压差室和第二真空压差室处于同一水平线上。

8.根据权利要求7所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜室和第二镀膜室的先后顺序能够调换。

9.根据权利要求8所述的新型带钢真空镀膜设备，其特征在于，所述预热室内设有电子枪。