[实用新型]一种摇摆式真空管式炉有效
| 申请号: | 202020076647.3 | 申请日: | 2020-01-14 |
| 公开(公告)号: | CN211552437U | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
| 发明(设计)人: | 王海侠;肖伟军 | 申请(专利权)人: | 欧钛鑫光电科技(苏州)有限公司 |
| 主分类号: | F27B17/00 | 分类号: | F27B17/00;F27D1/00 |
| 代理公司: | 苏州睿昊知识产权代理事务所(普通合伙) 32277 | 代理人: | 陈蜜 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市相城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 摆式 真空管 | ||
本实用新型公开了一种摇摆式真空管式炉,包括加热箱体以及设于所述加热箱体内的炉管,所述加热箱体包括铰接于一起的上箱体与下箱体,所述上箱体与下箱体的内部均设有带有电阻丝的炉衬,所述加热箱体的两侧面板上及炉衬的中部均设有半圆槽;当上、下箱体关闭时,所述半圆槽闭合形成炉孔以安装所述炉管;所述摇摆式真空管式炉装置还包括底座以及驱动器,所述底座上设有U型支架,所述U型支架上设有一转轴,所述加热箱体的中部安装于所述转轴上;所述驱动器通过一曲柄连杆机构驱动所述加热箱体沿所述转轴上下摆动。本实用新型的摇摆式真空管式炉,可在一定范围内任意调节炉管的倾斜角度。
技术领域
本实用新型涉及烧结设备技术领域,具体涉及一种摇摆式真空管式炉。
背景技术
真空管式炉是物理气相沉积和化学气相沉积制备纳米材料最常用的设备之一,可适用于碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米ZnO的可控生长、陶瓷电容器(MLCC)的气氛烧结、金属材料的扩散焊等CVD工艺。
在真空管式炉实际工作过程中,基于提高材料的反应效率、进行合理位置调整等需要,可以在真空或通反应气体(包括流动气体或封闭气体)的同时,控制炉体倾斜一定的角度。例如使用NH3作为反应气体,反应过程中产生H2,则可以适当调整炉体的出气口一端处于较高的位置,使得H2从出气口尽快排出炉体,有利于提高设备的工作效率。目前,大部分真空管式炉的炉管为水平放置,无法调节管式炉的倾斜角度。少部分真空管式炉虽然具有调节功能,但大都存在调节不便的问题。
公开号为CN204251647U的中国专利公开了一种旋转热处理炉,其包括加热炉、炉管、驱动炉管旋转的驱动装置,其中,炉管的旋转轴线与水平面呈一锐角,可实现倾斜旋转。但这种热处理炉只能调节炉管一端的位置,并且采用丝杆无法实现快速调节。
公开号为CN201610891666.X的中国专利公开了一种加载等离子体增强功能的试管可旋转管式炉,其中,炉体底部一端与支撑框架进行铰接相连,炉体底部另一端与支撑框架之间通过电动推杆相互连接,倾斜调节方便。但这种管式炉同样只能调节炉管一端的位置。
公开号为CN209570015U的中国专利公开了一种新型可开启多工位旋转真空管式炉,包括上箱、下箱、旋转支架、固定支架;旋转支架下端固定在下箱后侧,旋转支架上设有多个相互连通的斜向的挂槽;固定支架包括与下盖板后侧连接的压板,压板后侧设有穿过挂槽的螺丝,螺丝上设有紧固螺母。但这种真空管式炉的倾斜角度不可连续调节,其需要手动调节,十分不便。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种摇摆式真空管式炉,该真空管式炉可在一定范围内任意调节炉管的倾斜角度。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种摇摆式真空管式炉,包括加热箱体以及设于所述加热箱体内的炉管,所述加热箱体包括铰接于一起的上箱体与下箱体,所述上箱体与下箱体的内部均设有带有电阻丝的炉衬,所述加热箱体的两侧面板上及炉衬的中部均设有半圆槽;当上、下箱体关闭时,所述半圆槽闭合形成炉孔以安装所述炉管;
所述摇摆式真空管式炉装置还包括底座以及驱动器,所述底座上设有U型支架,所述U型支架上设有一转轴,所述加热箱体的中部安装于所述转轴上;所述驱动器通过一曲柄连杆机构驱动所述加热箱体沿所述转轴上下摆动。
进一步地,所述驱动器为伺服电机。进一步地,所述伺服电机安装于所述底座上。
进一步地,所述下箱体内位于炉衬的两侧各设有一支撑架,其中一支撑架的侧面上安装有一对驱动齿轮,另一支撑架的侧面上安装有一对旋转导轨;所述炉管的一端对应地安装有与所述驱动齿轮啮合的从动齿轮,另一端对应地安装有与所述旋转导轨匹配的导轮。
进一步地,所述支撑架的顶端设置有用于放置炉管的半圆槽。
进一步地,所述炉管的进气端和出气端均安装有密封法兰、阀门与压力表。
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