[实用新型]一种纯离子真空镀膜系统

说明书

本发明涉及一种纯离子真空镀膜系统，包括真空容器，真空容器与抽真空装置相连接，真空容器内设置有用于装配待镀膜的基底材料的装配装置，真空容器上还设置有离子束清洗设备和纯离子真空镀膜设备。本发明提供的上述技术方案，通过离子束清洗设备+纯离子真空镀膜设备，在纯离子真空镀膜前，采用离子束清洗设备对基底材料的表面进行清洗处理，使得基底材料表面吸附的气体分子被完全去除，提高结合力。

技术领域

本发明涉及材料表面处理领域，具体涉及一种纯离子真空镀膜系统。

背景技术

真空镀膜是材料表面处理的一种方式，市场上一般分为：真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜。真空镀膜是指真空抽气系统把真空容器抽至指定真空条件；加热源加热固态“膜层原材料”至适当温度，使之表面气化；“膜层原材料”表面的气化原子入射在镀膜产品表面，形成膜层；该方法获取的膜层结合力差、不均匀、膜层疏松、不致密。真空磁控溅射镀膜是指真空抽气系统把真空容器抽至指定真空条件，在真空环境中冲入氩气，电子在电场的作用下运动过程中与氩原子发生碰撞，电离出氩离子和电子，氩离子在电场的作用下轰击“阴极靶材”，溅射出靶材原子和离子，利用磁场提高氩气离化效率，提高膜层沉积速率，靶材原子和离子沉积在“被镀膜产品”表面，形成膜层。真空磁控溅射镀膜也存在膜层结合力弱，膜层不致密的缺陷。

为解决现有真空镀膜中的结合力的问题，通常采用加热的方法：提高真空镀膜温度至400度以上，增加分子热运动能力，提高结合力。但是对于大部分绝缘材料，特别是塑料，耐温通常在200度以下，无法承受真空镀膜高温，所以在绝缘材料上，特别是塑料上，现有的真空镀膜技术无法有效提高膜层的结合力。

发明内容

本发明的目的是提供一种纯离子真空镀膜系统，其可以提高膜层与绝缘材料的结合力。

本发明采用的技术方案是：

一种纯离子真空镀膜系统，其特征在于:包括真空容器，真空容器与抽真空装置相连接，真空容器内设置有用于装配待镀膜的基底材料的装配装置，真空容器上还设置有离子束清洗设备和纯离子真空镀膜设备。

具体的：离子束清洗设备和纯离子真空镀膜设备对应布置在真空容器的侧壁上。

装配装置与调节装置相连接，调节装置调节基底材料进行转动，使得基底材料待处理表面与离子束清洗设备、纯离子真空镀膜设备相对应布置。

装配装置与偏压装置相连接。

纯离子真空镀膜设备包括阴极、阳极、等离子触发装置，等离子触发装置通过电磁过滤装置与真空容器相连接。

电磁过滤装置出口端设置有纯带电离子的电磁扫描装置。

电磁过滤装置包括弧度为30～180°的过滤管，过滤管上设置有过滤磁场装置，过滤管的长度为0.2～1.5m，过滤管的直径为0.1～0.8m。

过滤管的材质组成包括不锈钢、纯铜、铜合金、铝合金。

电磁扫描装置包括过滤管出口端顺延布置的直管，直管的直径与过滤管保持一致，直管上设置有扫描磁场装置。

基底材料基座支撑式或吊挂式装配在真空容器内，偏压装置为-10000～0V的负压电源。

与现有技术相比，本发明提供的上述技术方案，通过离子束清洗设备+纯离子真空镀膜设备，在纯离子真空镀膜前，采用离子束清洗设备对基底材料的表面进行清洗处理，使得基底材料表面吸附的气体分子被完全去除，提高结合力。

附图说明

图1为纯离子真空镀膜系统的结构示意图。

100-真空容器、200-基底材料、300-离子束清洗设备、410-纯离子真空镀膜设备、411-等离子触发装置、412-阴极、413-阳极、420-电磁过滤装置、430-电磁扫描装置、500-抽真空装置。