[实用新型]一种纯离子真空镀膜系统

权利要求书

1.一种纯离子真空镀膜系统，其特征在于:包括真空容器，真空容器与抽真空装置相连接，真空容器内设置有用于装配待镀膜的基底材料的装配装置，真空容器上还设置有离子束清洗设备和纯离子真空镀膜设备。

2.根据权利要求1所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:离子束清洗设备和纯离子真空镀膜设备对应布置在真空容器的侧壁上。

3.根据权利要求2所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:装配装置与调节装置相连接，调节装置调节基底材料进行转动，使得基底材料待处理表面与离子束清洗设备、纯离子真空镀膜设备相对应布置。

4.根据权利要求3所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:装配装置与偏压装置相连接。

5.根据权利要求3所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:纯离子真空镀膜设备包括阴极、阳极、等离子触发装置，等离子触发装置通过电磁过滤装置与真空容器相连接。

6.根据权利要求5所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:电磁过滤装置出口端设置有纯离子束流的电磁扫描装置。

7.根据权利要求6所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:电磁过滤装置包括弧度为30～180°的过滤管，过滤管上设置有过滤磁场装置，过滤管的长度为0.2～1.5m，过滤管的直径为0.1～0.8m。

8.根据权利要求7所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:过滤管的材质组成包括不锈钢、纯铜、铜合金、铝合金。

9.根据权利要求8所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:电磁扫描装置包括过滤管出口端顺延布置的直管，直管的直径与过滤管保持一致，直管上设置有扫描磁场装置。

10.根据权利要求4所述的纯离子真空镀膜系统，其特征在于:基底材料基座支撑式或吊挂式装配在真空容器内，偏压装置为-10000～0V的负压电源。