[发明专利]可控微透镜阵列清洁装置在审
申请号: | 202011643336.1 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112718702A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 侯煜;王瑜;岳嵩;王然;张紫辰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;B08B11/00 |
代理公司: | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人: | 陈晓瑜 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可控 透镜 阵列 清洁 装置 | ||
本发明提供一种可控微透镜阵列清洁装置,包括:环形固定件,环绕所述可控微透镜阵列设置;气体喷出模块,与所述环形固定件内部侧壁连接,所述气体喷出模块设置于所述可控微透镜阵列上方;气体排出模块,与所述环形固定件内部侧壁连接,所述气体排出模块设置于所述可控微透镜阵列上方,所述气体排出模块设置在所述气体喷出模块的对侧。本发明提供的技术方案能够及时清理可控微透镜阵列表面的清洁,保持可控微透镜阵列的清洁。
技术领域
本发明涉及激光退火技术领域,尤其涉及一种可控微透镜阵列清洁装置。
背景技术
采用大面阵可控微透镜阵列的激光退火设备,可以解决激光退火过程中光斑大小和质量不一的问题,从而保证晶圆退火过程中的加工均匀性。然而,大面阵可控的微透镜阵列对环境要求极为严格,灰尘、杂质等都会对最终的加工效果产生影响。而且,在加工过程中微透镜阵列是朝上向外裸露,易附着杂质。由于激光退火装置对于精度要求极高,附着杂质会产生严重的影响,因此必须解决大面阵可控微透镜阵列的清洁问题。
发明内容
本发明提供的可控微透镜阵列清洁装置,能够及时清理可控微透镜阵列表面的清洁,保持可控微透镜阵列的清洁。
本发明提供一种可控微透镜阵列清洁装置,包括:
环形固定件,环绕所述可控微透镜阵列设置;
气体喷出模块,与所述环形固定件内部侧壁连接,所述气体喷出模块设置于所述可控微透镜阵列上方;
气体排出模块,与所述环形固定件内部侧壁连接,所述气体排出模块设置于所述可控微透镜阵列上方,所述气体排出模块设置在所述气体喷出模块的对侧。
可选地,所述环形固定件的顶部开口设置有顶部保护玻璃,所述环形固定件的底部开口设置有底部保护玻璃。
可选地,还包括:
第一流量监测模块,设置在所述环形固定件上,用于检测所述气体喷出模块喷出的气体的第一流量;
第二流量监测模块,设置在所述环形固定件上,用于检测所述气体排出模块排出的气体的第二流量。
可选地,还包括:
第一调节模块,连接在所述气体喷出模块上,所述第一调节模块用于调节所述气体喷出模块的第一流量;
第二调节模块,连接在所述气体排出模块上,所述第二调节模块用于调节所述气体排出模块的第二流量;
平衡模块,所述平衡模块与所述第一流量监测模块和所述第二流量监测模块通信连接,所述平衡模块用于依据所述第一流量和第二流量的差值,控制所述第一调节模块对所述第一流量进行调节,或者控制所述第二调节模块对所述第二流量进行调节。
可选地,还包括:
保护模块,与所述第一流量监测模块和第二流量监测模块通信连接,所述保护模块用于当所述第一流量和所述第二流量的差值超出预定阈值时,关闭所述气体喷出模块和气体排出模块。
可选地,还包括:
联动模块,与激光发生器、气体喷出模块和气体排出模块通信连接,所述联动模块用于在激光发生器开启前关闭所述气体喷出模块和所述气体排出模块,在激光发生器关闭后开启所述气体喷出模块和所述气体排出模块。
可选地,还包括:
气压控制模块,与激光发生器通信连接,所述气压控制模块用于获取激光发生器的工作状态,并在激光发生器处于预备状态时,控制所述气体喷出模块的进气压强为1.6MPa,在激光发生器处于待机状态或者维护状态时,控制所述气体喷出模块的进气压强为0.6MPa。
可选地,所述气体喷出模块的出气口为条形的出气口;所述气体排出模块的进气口为条形的进气口。
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