[发明专利]一种晶硅片碱抛光装置及抛光工艺

权利要求书

1.一种晶硅片碱抛光装置，包括工件（1），其特征在于：还包括设备主体（2）、抛光模具（3）、固定组件（6）、若干喷嘴（8）、转轴（4）和传动机构（5）；

所述设备主体（2）包括平台（21）、第一缸体（22）、第二缸体（23）、第一缸盖（24）和第二缸盖（25），所述平台（21）水平设置；

所述第一缸体（22）固定安装于平台（21）上表面，所述第一缸体（22）内开设第一腔体（27），所述第一缸体（22）顶部和底部敞开且底部贯穿平台（21）；

所述第二缸体（23）固定安装于平台（21）下表面，所述第二缸体（23）内开设第二腔体（28），所述第二缸体（23）底部封闭且顶部连通至第一腔体（27），所述第二腔体（28）内盛有抛光液；

所述第一缸盖（24）可开启盖合于第一缸体（22）顶端，所述第一缸盖（24）内开设第三腔体（29），所第一缸盖（24）顶部封闭且底部连通至第一腔体（27）；

所述第二缸盖（25）固定连接于抛光模具（3）上表面；

所述抛光模具（3）位于第一腔体（27）和第二腔体（28）内，所述抛光模具（3）能够沿铅垂线方向移动以接触工件（1）上表面，且所述抛光模具（3）由外源驱动设备驱动并相对于工件（1）运动，使所述抛光模具（3）对工件（1）上表面进行抛光；

所述固定组件（6）固定安装于第一腔体（27）内且靠近第三腔体（29）的一端，所述固定组件（6）用于承载和固定工件（1），以便抛光模具（3）接触工件（1）上表面进行抛光作业，所述固定组件（6）包括平板（61）、吸盘（63）、通气管（64）、支架（62）和手柄（65），所述平板（61）水平设置且表面设有若干镂空孔以连通第一腔体（27）和第三腔体（29），所述平板（61）上表面开设至少两个嵌槽（611），所述嵌槽（611）底部贯通至平板（61）下表面，所述工件（1）嵌合于嵌槽（611）内，且所述工件（1）顶部超出嵌槽（611）所在端面，若干所述吸盘（63）固定设置于嵌槽（611）底部，所述吸盘（63）用于吸附工件（1）下表面，若干所述通气管（64）一端穿过平板（61）下表面并一一对应的连通吸盘（63），若干所述通气管（64）的另一端一并连通于同一外源抽真空设备，所述支架（62）固定连接于平板（61）下表面且位于嵌槽（611）正下方，所述通气管（64）螺纹连接于支架（62）上，所述手柄（65）固定连接于底端用于转动通气管（64）以调节吸盘（63）和平板（61）上表面的距离；

若干所述喷嘴（8）固定设置于第一缸盖（24）内周壁上，所述喷嘴（8）尾端固定连通外源输送机构，当所述抛光模具（3）对工件（1）上表面进行抛光时，所述喷嘴（8）向第一腔体（27）和第二腔体（28）内持续输入抛光液；

所述转轴（4）轴接于第一缸盖（24）顶端面，所述转轴（4）一端连接于外源驱动设备，所述转轴（4）另一端穿过第一缸盖（24）顶部并插入第二缸盖（25）内；

所述传动机构（5）包括主齿轮（51）、从齿轮（52）和齿圈（53）；所述主齿轮（51）固定连接于转轴（4）插入第二缸盖（25）内的一端且位于第二缸盖（25）内，所述齿圈（53）固定设置于第二缸盖（25）内周壁，所述从齿轮（52）啮合于主齿轮（51）和齿圈（53）之间。

2.根据权利要求1所述的一种晶硅片碱抛光装置，其特征在于：还包括抽气管（7），所述第二缸体（23）侧壁开设有抽气口（232），所述抽气管（7）一端同时连通若干通气管（64），所述抽气管（7）另一端连通抽气口（232），所述抽气口（232）连通外源抽真空设备。

3.根据权利要求1所述的一种晶硅片碱抛光装置，其特征在于：所述抛光模具（3）围绕铅垂线做顺时针或逆时针的回转运动，且所述抛光模具（3）的下表面面积小于平板（61）的上表面面积。

4.根据权利要求1所述的一种晶硅片碱抛光装置，其特征在于：所述喷嘴（8）为雾化喷嘴。