[发明专利]镜头畸变补偿方法、存储介质以及直写式光刻机有效
| 申请号: | 202011635539.6 | 申请日: | 2020-12-31 | 
| 公开(公告)号: | CN112748644B | 公开(公告)日: | 2022-09-23 | 
| 发明(设计)人: | 赵美云 | 申请(专利权)人: | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 | 
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 | 
| 代理公司: | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人: | 朱鸿雁 | 
| 地址: | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 镜头 畸变 补偿 方法 存储 介质 以及 直写式 光刻 | ||
本发明公开了一种镜头畸变补偿方法、存储介质以及直写式光刻机,镜头畸变补偿方法包括,获取光刻版图的版图数据;根据预设曝光步进宽度将所述版图数据划分为多个曝光数据组;根据畸变趋势方程对每个所述曝光数据组进行补偿以获得补偿后的曝光数据,所述畸变趋势方程为所述曝光数据组中数据点的相对位置与所述直写式光刻机镜头的畸变误差的关系方程;根据所述补偿后的曝光数据进行曝光处理。该方法可以缩小物镜畸变误差,提升直写式光刻机的位置精度和多层对准或套刻的能力,提高制程能力。
技术领域
本发明涉及光刻机技术领域,尤其是涉及一种镜头畸变补偿方法、一种计算机存储介质和一种直写式光刻机。
背景技术
直写式光刻技术是在感光材料的表面印刷具有特征的构图的技术,其中无掩膜光刻技术使用数字微镜系统生成构图,通过光学投影元件,图像以一定得倍率投影到光敏感的衬底上,产生特征的构图。
直写式光刻机将曝光光源照射至DMD(Digital Micro-mirror Device,数字微镜)镜面上,通过小镜片反射以及物镜缩放,投影至曝光载台上的基底表面,并与基底上的感光介质发生反应,从而将需要曝光的光刻图形转移到基底上。其中,成像物镜的倍率,通常为标定相机或其他可用标定设备,利用标定mark对镜头进行标定,但由于物镜畸变的客观存在,使得实际标定的倍率为平均倍率或以中心倍率,而对于物镜视场内靠近边缘区域,其倍率是无法准确测量的。由此,因物镜畸变造成的误差,对直写式光刻机的位置精度和多层对准或套刻能力的提升也造成了一定的难度。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种镜头畸变补偿方法,该方法可以缩小物镜畸变误差,提升直写式光刻机的位置精度和多层对准或套刻的能力,提高制程能力。
本发明的目的之二在于提出一种计算机存储介质。
本发明的目的之三在于提出一种直写式光刻机。
为了解决上述问题,本发明第一方面实施例的镜头畸变补偿方法,用于直写式光刻机,包括:获取光刻版图的版图数据;根据预设曝光步进宽度将所述版图数据划分为多个曝光数据组;根据畸变趋势方程对每个所述曝光数据组进行补偿以获得补偿后的曝光数据,所述畸变趋势方程为所述曝光数据组中数据点的相对位置与所述直写式光刻机镜头的畸变误差的关系方程;根据所述补偿后的曝光数据进行曝光处理。
根据本发明实施例的镜头畸变补偿方法,通过直写式光刻机根据预设曝光步进宽度将获取的版图数据划分为多个曝光数据组,进而根据畸变趋势方程对每个曝光数据组进行补偿以获得补偿后的曝光数据,即在曝光数据未曝光之前,根据畸变趋势方程对每个曝光数据组中的数据点进行畸变矫正,可以缩小物镜畸变误差,提升直写式光刻机的位置精度和多层对准或套刻的能力,提高光刻机的制程能力。
在一些实施例中,根据畸变趋势方程对每个所述曝光数据组进行补偿,包括:对于每个所述曝光数据组,确定所述曝光数据组的中心数据点;获得所述曝光数据组中每个数据点与所述中心数据点的相对距离,以作为对应数据点的相对位置;将每个数据点与所述中心数据点的相对距离代入所述畸变趋势方程以获得每个数据点的畸变误差;将所述畸变误差补偿给所述曝光数据组中对应的曝光数据。
在一些实施例中,所述畸变趋势方程通过以下步骤获得并保存:
获得标准版图的理论间距值,其中,所述标准版图包括M*N的标记点阵列,所述理论间距值为所述标记点阵列中相邻列标记点之间的第一间距值,M为大于0的自然数,N为大于1的自然数,0理论间距值条带曝光宽度;
对所述标记点阵列进行曝光处理,获得曝光处理后的标记点阵列;
获得曝光处理后的标记点阵列中相邻列标记点之间的第二间距值;
获得间距差值阵列,其中,所述间距差值阵列包括i*j的间距差值,所述间距差值为第二间距值与对应的第一间距值的差值,0iM,0jN;
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