[发明专利]一种光刻胶树脂及其制备方法在审
申请号: | 202011634104.X | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112794941A | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 顾大公;马潇;余绍山;陈鹏;齐国强;许东升;毛智彪;许从应 | 申请(专利权)人: | 宁波南大光电材料有限公司 |
主分类号: | C08F220/28 | 分类号: | C08F220/28;C08F220/20;G03F7/004 |
代理公司: | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人: | 左光明 |
地址: | 315800 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 树脂 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种光刻胶树脂及其制备方法,该方法包括:预处理:将至少两种丙烯酸酯类单体与有机溶剂在氮气环境下进行均匀混合,得到混合液,其中,所述丙烯酸酯类单体中极性单体与非极性单体的质量比为(3‑7):(3‑7);光刻胶树脂的合成:氮气环境下在所述混合液中加入引发剂并进行搅拌、升温反应,得到聚合物溶液;光刻胶树脂的分离提纯:在所述聚合物溶液中加入沉淀剂并进行抽滤干燥,得到光刻胶树脂。通过该方法制备得到的光刻胶树脂可以较好的调控树脂的极性组分与非极性组分,该光刻胶树脂在进行应用的过程中,使得光刻胶膜的显影液浸润性和光刻胶膜与衬底的黏附性适中,同时减少了光刻胶膜在显影液中的过多损失。
技术领域
本发明涉及光刻胶技术领域,尤其涉及一种光刻胶树脂及其制备方法。
背景技术
光刻胶树脂的极性决定了光刻胶膜的显影液浸润性和光刻胶膜与衬底的黏附性。如果光刻胶树脂过于非极性,会使得光刻胶膜的显影液浸润性和光刻胶膜与衬底的黏附性差,容易导致线宽粗糙度、灵敏度、倒胶、光刻胶残留等问题;如果树脂过于极性,会使得光刻胶膜的显影液浸润性和光刻胶膜与衬底的黏附性过强,导致光刻胶膜在显影液中损失过多,剩余光刻胶膜厚不足以满足刻蚀工艺的需求。
发明内容
本发明实施例提供了一种光刻胶树脂及其制备方法,旨在解决现有技术中无法较好的调控光刻胶树脂的极性组分与非极性组分,导致无法满足刻蚀工艺的问题。
本发明实施例提供了一种光刻胶树脂的制备方法,该方法包括以下步骤:
预处理:将至少两种丙烯酸酯类单体与有机溶剂在氮气环境下进行均匀混合,得到混合液,其中,所述丙烯酸酯类单体中极性单体与非极性单体的质量比为(3-7):(3-7);
光刻胶树脂的合成:氮气环境下在所述混合液中加入引发剂并进行搅拌、升温反应,得到聚合物溶液;
光刻胶树脂的分离提纯:在所述聚合物溶液中加入沉淀剂并进行抽滤干燥,得到光刻胶树脂。
优选地,在所述的光刻胶树脂的制备方法中,所述丙烯酸酯类单体中非极性单体的具体结构通式为:
其中,Ra为H或碳原子数为1-20的碳链;Rb为酸敏的四级碳或多环烷基化合物的官能团;
所述丙烯酸酯类单体中极性单体的具体结构通式为:
其中,Rc为H或碳原子数为1-20的碳链;Rd为含具备强极性的酯键或羟基的多环化合物的官能团。
更优选地,在所述的光刻胶树脂的制备方法中,若所述Rb为酸敏的四级碳的官能团时,其碳原子数在3-30之间,其和酯键氧原子相连的碳原子的氢原子全部被其它基团取代,构成叔丁基酯、取代叔丁基酯、烷基取代的金刚烷酯、烷基取代的金刚烷衍生物酯、烷基取代的降冰片酯、烷基取代的降冰片衍生物酯、烷基取代的环状烷基酯、烷基取代的环状烷基衍生物酯中的一种或多种。
更优选地,在所述的光刻胶树脂的制备方法中,若所述Rb为多环烷基化合物的官能团时,其碳原子数在3-30之间,其和酯键氧原子相连的碳原子的氢原子不完全被其它基团取代,构成叔丁基酯、取代叔丁基酯、烷基取代的金刚烷酯、烷基取代的金刚烷衍生物酯、烷基取代的降冰片酯、烷基取代的降冰片衍生物酯、烷基取代的环状烷基酯、烷基取代的环状烷基衍生物酯中的一种或多种。
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