[发明专利]一种PERC单晶电池用硅片的退火方法及PERC单晶电池用硅片与应用有效

专利信息
申请号: 202011624334.8 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112820797B 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 李文龙;何悦;金杭 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0216
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 322118 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 perc 电池 硅片 退火 方法 应用
【说明书】:

发明提供了一种PERC单晶电池用硅片的退火方法及PERC单晶电池用硅片与应用,所述退火方法包括以下步骤:(1)送入硅片,同时通入氮气,维持第一时间段;(2)抽真空至第一绝对压力,同时升温至第一温度,维持第二时间段;(3)在第二绝对压力下通入氮气吹扫,保持在第二温度,维持第三时间段;(4)抽真空至第三绝对压力,保持在第三温度,维持第四时间段;(5)回压至第四绝对压力,保持在第四温度,维持第五时间段;(6)在第五温度下通入氮气和氧气,进行恒温氧化,维持第六时间段;(7)取出硅片,同时通入氮气,维持第七时间段。所述退火方法有效地在电池表面形成了高质量的钝化膜,同时最大程度地减少了硅片表面白点数量。

技术领域

本发明属于太阳能电池技术领域,涉及一种PERC单晶电池用硅片,尤其涉及一种PERC单晶电池用硅片的退火方法及PERC单晶电池用硅片与应用。

背景技术

PERC(钝化发射极和背面电池技术)起源于上世纪80年代,通过在常规电池的背面叠加钝化层,可以提高转化效率,由这种技术制备的单晶电池称为PERC单晶电池。制备PERC单晶电池的工艺流程一般分为以下步骤:制绒→扩散→SE激光→氧化→刻蚀(去PSG)→退火→背膜→正膜→背膜激光开槽→丝网印刷→烧结→光注入或电注入→测试分拣。其中,在退火步骤中,利用氧原子与硅片表面未饱和的硅原子反应形成二氧化硅,降低了硅片表面悬挂键密度,从而起到了钝化的效果。然而在实际生产过程中,由于硅片表面的杂质无法彻底且有效去除,很容易导致硅片表面出现白点,进而影响PERC单晶电池的合格率。

CN 109742185A公开了一种改善晶硅双面电池小白点的变温变压热氧化工艺,所述工艺包括以下步骤:上料、进舟、升温、吹扫、抽真空、氧化、回压冷却、出舟与下料。所述发明采用变温变压方式来减少PE白点,但存在如下问题:(1)将炉管内温度升温至850-980℃,温度过高使得多数表面杂质进入硅片,从而无法有效排除硅片表面白点;(2)虽然具备吹扫步骤,但是氮气流量为5-10SLM,炉管内压力控制在100-300mbar,压力过低,且气体流量过少,吹扫效果有限;(3)升温到850℃以上至少需要10min,并且温度下降需要20min以上,严重影响了工艺时间,以牺牲产能为代价,达不到量产的要求。

CN 107256907A公开了一种改善PERC高效电池片外观小白点的退火工艺,所述退火工艺包括以下步骤:a:将炉管温度调低为550℃,然后将硅片放入炉管内,随后通入5000±1000sccm氧气,与硅片表面杂质发生氧化反应;b:向炉管内通入5000±1000sccm氮气进行吹扫,去除硅片表面杂质;c:将炉管内温度提升至700±20℃,然后通入1000sccm氮气用以保护硅片表面,避免二次污染;d:硅片出炉管后降温至550℃。然而所述发明将氧化步骤置于吹扫步骤之前,无法避免在氧化过程中表面杂质进入硅片,从而影响电池片的质量。

由此可见,如何提供一种退火工艺,有效地在PERC单晶电池表面形成均匀、高质量的SiO2钝化膜,同时最大程度地减少硅片表面小白点的数量,成为了目前本领域技术人员迫切需要解决的问题。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种PERC单晶电池用硅片的退火方法及PERC单晶电池用硅片与应用,所述退火方法有效地在PERC单晶电池表面形成了均匀、高质量的SiO2钝化膜,同时最大程度地减少了硅片表面小白点的数量。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:

第一方面,本发明提供一种PERC单晶电池用硅片的退火方法,所述退火方法包括以下步骤:

(1)送入硅片,同时通入氮气,维持第一时间段;

(2)抽真空至第一绝对压力,同时升温至第一温度,维持第二时间段;

(3)在第二绝对压力下通入氮气吹扫,保持在第二温度,维持第三时间段;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于横店集团东磁股份有限公司,未经横店集团东磁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011624334.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top