[发明专利]针对半导体的双工位砂纸抛光装置及其抛光方法

权利要求书

1.一种针对半导体的双工位砂纸抛光装置，其特征在于，包括：

安装在机架上的支架模组，产品入料流道，产品出料流道，产品上料模组，下料模组，前上砂纸模组，前打磨治具，前打磨头，后上砂纸模组，后打磨治具以及后打磨头；

所述产品入料流道设在机架的上表面左侧居中位置；所述产品入料流道包括设在机架的上表面左侧居中位置的导轨一，所述导轨一的右端与上料机的出口端相接，所述导轨一的右端嵌入有托盘一，所述托盘一与气缸一连接，所述气缸一与设置在电控箱中的PLC控制器电性连接；所述导轨一的左端和导轨一的右端分别设置有同PLC控制器电性连接的光电传感器一和光电传感器二；

所述产品上料模组包括分列于所述导轨一的左端两边的两根竖直导轨，气缸三与设置在电控箱中的PLC控制器电性连接，所述气缸三与电动丝杠一连接，所述电动丝杠一与两根竖直导轨可移动连接，所述电动丝杠一的输出端与竖直设置的真空吸盘一连接，所述真空吸盘一处在所述导轨一的左端的正上方，所述电动丝杠一的电机与PLC控制器信号连接，所述真空吸盘一由PLC控制器控制。

2.根据权利要求1所述的针对半导体的双工位砂纸抛光装置，其特征在于，所述前打磨治具与后打磨治具分别设在产品入料流道与产品出料流道两侧；

所述前打磨治具与后打磨治具均单独包括有打磨治具本体，所述打磨治具本体包括设置有电动丝杠二的水平横向伸展的直线滑台，旋转平台，与水路相通的接水盒，水槽及竖直设置的真空吸盘二；

所述旋转平台包括底座和设置在底座上的旋转马达，所述旋转马达的竖向的输出端与接水盒的底部连接，所述旋转马达与PLC控制器信号控制连接；

所述电动丝杠二的输出端与旋转平台的底座连接，所述电动丝杠二的电机与PLC控制器信号连接；

顶部敞口的所述接水盒内设置有真空吸盘二；

所述直线滑台旁设置有所述接水盒相通的水槽；

所述水路为与外部水源连通的管路，所述管路上设置有与PLC控制器连接的电磁阀。

3.根据权利要求2所述的针对半导体的双工位砂纸抛光装置，其特征在于，所述前打磨头与后打磨头安装在同一作为运动模组的导轨上，且统一安装在支架模组的左侧；

所述前打磨头与后打磨头均单独包括有打磨头本体，所述打磨头本体包括气缸四，伺服电机和偏心轮；

所述气缸四与伺服电机连接；

所述伺服电机的输出端的底端与底部设置有砂纸的偏心轮连接；

所述伺服电机和PLC控制器控制连接，所述PLC控制器与气缸四连接；

所述产品出料流道设在机架上表面右侧居中位置。

4.根据权利要求3所述的针对半导体的双工位砂纸抛光装置，其特征在于，所述前上砂纸模组与后上砂纸模组分别设置在所述前打磨头与后打磨头旁，所述前上砂纸模组与后上砂纸模组均包括单独的上砂纸结构，所述上砂纸结构包括有倾斜向下朝向砂纸上料机构的砂纸摆放机构，旋转汽缸砂纸上料机构，砂纸搬运机构，夹爪拉拔机构以及卸砂纸机构，所述砂纸摆放机构包括有两头敞口的盒体，所述盒体距离砂纸上料机构更近的一头敞口上设置有挡条，所述盒体内的底壁上开有槽口，所述槽口内设置有压块，所述压块和挡条之间填充有砂纸；

所述砂纸上料机构包括有旋转气缸，所述旋转气缸的缸轴端连接着真空吸盘三，所述真空吸盘三由PLC控制器控制；

所述砂纸上料机构旁设置有砂纸搬运机构，所述砂纸搬运机构包括支撑台和连接在支撑台底部的气缸五，所述气缸五与PLC控制器连接；

所述砂纸搬运机构旁设置有夹爪拉拔机构以及卸砂纸机构，所述夹爪拉拔机构包括气缸六与气缸六的缸轴端相连的弯钩一，而所述偏心轮上的砂纸由设于偏心轮上的具有弯钩二的弹性压板所压牢，所述气缸六与PLC控制器连接；所述卸砂纸机构包括气缸七和与气缸七的缸轴端相连的真空吸盘四，真空吸盘四由PLC控制器控制，所述气缸七与PLC控制器连接。

5.根据权利要求1所述的针对半导体的双工位砂纸抛光装置，其特征在于，所述前上砂纸模组与后上砂纸模组分别设置在前打磨治具与后打磨治具的两侧，所述前上砂纸模组与后上砂纸模组呈镜像布局；

所述下料模组设在支架模组的右侧，所述下料模组用于将产品从前打磨治具与后打磨治具搬运至产品出料流道。