[发明专利]一种基于人工智能的高带宽芯片含Al材料BH工艺在审

专利信息
申请号: 202011618751.1 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112864020A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 陈博;赵浩;张静;黎载红 申请(专利权)人: 上海波汇科技有限公司
主分类号: H01L21/34 分类号: H01L21/34;H01L21/48;H01L21/768;H04W88/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201613 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 人工智能 带宽 芯片 al 材料 bh 工艺
【说明书】:

发明公开了一种基于人工智能的高带宽芯片含Al材料BH工艺,包括如下步骤:S1获得第一晶圆结构,进行光栅图形制作,以获得第二晶圆结构,进行二次外延生长处理,加入Al材料,得到第三晶圆结构;所述第三晶圆结构进行脊图形处理,得到第四晶圆机构;S3在所述第一晶圆结构、第二晶圆结构、第三晶圆结构和第四晶圆结构上方布设至少两层金属层,作为布线层使用;S4经互联线连接,对第四晶圆结构进行PN限制层生长;S5计算连线间距、线宽、互联线长度;S6集成人工智能通讯芯片;S7外联MPU微处理器模块,制得集成芯片。本发明通过获取四个圆晶结构,多次外延生长,可得到Al材料BH结构,形成两组芯片,具有高带宽、低成本等性能,促使人工智能的实现。

技术领域

本发明涉及芯片加工技术领域,具体为一种基于人工智能的高带宽芯片含Al材料BH工艺。

背景技术

BH工艺,即制造掩埋异质结结构的工艺,两种不同的半导体相接触所形成的界面区域.按照两种材料的导电类型不同,异质结可分为同型异质结(P-p结或N-n结)和异型异质(P-n或p-N)结,多层异质结称为异质结构,通常形成异质结的条件是:两种半导体有相似的晶体结构,相近的原子间距和热膨胀系数,利用界面合金、外延生长、真空淀积等技术,都可以制造异质结,异质结常具有两种半导体各自的PN结都不能达到的优良的光电特性,使它适宜于制作。

在芯片上进行BH工艺处理时,有的工艺其中选用的材料错误,无法满足工艺需求的同时,制得的材料中,其脊波导两侧仅由钝化层包覆起到限制电流作用,电场和光场限制作用皆较差,而且实际加工时,所得的成本率较低。

在芯片通讯领域,特别是芯片带宽问题上,如SIC芯片,其通过硅基内插转接板和HBM2内存芯片互连,微凸块之间的间距是50um,每个信道包含212个信号线,其中有128个数据信号,每个数据信号速率最高可以达到2.5Gb/s,可以得知26mm的裸片高度上,如果采用这种技术,最高支持的带宽只能达到0.78Tbps,远远小于双向12.8Tbps的带宽要求,更无法满足通讯中,特别是在区域网络环境下,人工智能逐渐形成的情况下,若是不具备较高的信号传输效率,极容易造成延迟,特别是人工智能设备的运行不流畅,影响实际使用。

在带宽无法满足实际需求的情况下,相应的,在芯片封装的情况下,封装不方便的同时,所消耗的开销较为昂贵,而且效率较低,整体上所需成本较大。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基于人工智能的高带宽芯片含Al材料BH工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种基于人工智能的高带宽芯片含Al材料BH工艺,包括如下步骤:

S1采用In衬底上进行一次外延生长处理,获得第一晶圆结构,所述第一晶圆结构的上表面进行光栅图形制作,以获得第二晶圆结构,在所述第二晶圆结构表面进行二次外延生长处理,加入Al材料,得到第三晶圆结构;

S2所述第三晶圆结构进行脊图形处理,得到第四晶圆机构;

S3在所述第一晶圆结构、第二晶圆结构、第三晶圆结构和第四晶圆结构上方布设至少两层金属层,作为布线层使用;

S4经互联线实现第一晶圆结构、第二晶圆结构、第三晶圆结构和第四晶圆结构的连接,对第四晶圆结构进行PN限制层生长;

S5计算两层金属层的连线间距和互联线的线宽,计算互联线需要占用芯片边长的长度;

S6经处理得到Home Plug协议通讯模块和WiFi协议通讯模块两组芯片,将两个芯片并排放置,旋转任意一组芯片,进行芯片两两对齐,进行芯片互联,集成人工智能通讯芯片;

S7将所述两组芯片外联MPU微处理器模块,制得集成芯片。

优选的,所述两组芯片上皆安装有复数发送信号引脚和接收信号引脚。

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