[发明专利]光学镜片及其制造方法

说明书

本发明提供了一种光学镜片，其包括：镜片基底；以及抑反射膜层，所述抑反射膜层包括第一抑反射层和第二抑反射层，所述第一抑反射层叠设于所述镜片基底；所述第二抑反射层叠设于所述第一抑反射层远离所述镜片基底的一侧；其中，第一抑反射层的折射率大于第二抑反射层的折射率。本发明提供的光学镜片的制造方法包括以下步骤：将光学镜片的镜片基底置于镀膜腔内；维持镀膜腔内的真空度在1.5E‑2Pa～1.0E‑3Pa之间；加热镀膜腔，以25℃‑100℃的镀膜温度蒸发抑反射材料，并向镀膜腔内通入气体介质，在镜片基底上以0.1A/s～3A/s的镀膜速率沉积形成所述抑反射膜层。本发明提供的光学镜片能有效抑制由于镜片基底的反射造成的鬼影和眩光，提升了光学镜片的画质。

【技术领域】

本发明涉及光学成像设备技术领域，尤其涉及一种光学镜片及其制造方法。

【背景技术】

近年来，随着各种智能设备的兴起，小型化摄像光学镜头的需求日渐提高，且由于感光器件的像素尺寸缩小，再加上现今电子产品以功能佳且轻薄便携的外型为发展趋势，因此，具备良好成像品质的小型化摄像光学镜头俨然成为目前市场上的主流。为获得较佳的成像品质，多采用多片式光学镜片。

相关技术的光学镜片，当光线通过大曲率的光学镜片时，所述光学镜片和空气边界处的折射率会突然发生较大变化，从而引起反射，而反射会造成所述光学镜片的成像出现鬼影和眩光，降低画质。

因此，必须提供一种新的光学镜片以解决上述技术问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种能有效抑制反射的光学镜片及其制造方法。

为了达到上述目的，本发明提供了一种光学镜片，其包括：

镜片基底；以及

抑反射膜层，所述抑反射膜层包括第一抑反射层和第二抑反射层，所述第一抑反射层叠设于所述镜片基底；所述第二抑反射层叠设于所述第一抑反射层远离所述镜片基底的一侧；

其中，所述第一抑反射层的折射率大于所述第二抑反射层的折射率。

优选地，所述第一抑反射层的折射率为1.38，所述第二抑反射层的折射率为1.15。

优选地，所述抑反射膜层由多个颗粒沉积而成，其厚度在100纳米至200纳米之间。

优选地，所述抑反射膜层的厚度在150纳米至160纳米之间，所述第一抑反射层的厚度在35纳米至45纳米之间，所述第二抑反射层的厚度在110纳米至120纳米之间，所述颗粒的外径在60纳米至80纳米之间。

优选地，所述抑反射膜层的材料包括二氧化硅、一氧化硅和氟化镁中的一种或多种。

优选地，所述抑反射膜层的材料包括所述二氧化硅和所述一氧化硅，所述二氧化硅和所述一氧化硅比例为3:1。

本发明提供了一种光学镜片的制造方法，其包括以下步骤：

将所述光学镜片的所述镜片基底置于镀膜腔内；

维持所述镀膜腔内的真空度在1.5E-2Pa～1.0E-3Pa之间；

加热所述镀膜腔，以25℃-100℃的镀膜温度蒸发抑反射材料，并向所述镀膜腔内通入气体介质，在所述镜片基底上以0.1A/s～3A/s的镀膜速率沉积形成所述抑反射膜层；

优选地，所述镀膜腔内的镀膜真空度在2.0E-2Pa～1.0E-1Pa之间。

优选地，所述抑反射材料为二氧化硅、一氧化硅和氟化镁中的一种或多种，所述气体介质为氩、氮气和氧气中的一种或多种。

优选地，所述抑反射材料包括二氧化硅和一氧化硅，所述二氧化硅和所述一氧化硅的配比为3:1。