[发明专利]光学镜片及其制造方法在审
| 申请号： | 202011608115.0 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112731570A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 陈怀玉;王佳;王萍萍 | 申请（专利权）人： | 常州市瑞泰光电有限公司;诚瑞光学（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 深圳紫辰知识产权代理有限公司 44602 | 代理人： | 万鹏 |
| 地址： | 213167 江苏省常州市武*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学镜片 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学镜片，其特征在于，其包括：
镜片基底；以及
抑反射膜层，所述抑反射膜层包括第一抑反射层和第二抑反射层，所述第一抑反射层叠设于所述镜片基底；所述第二抑反射层叠设于所述第一抑反射层远离所述镜片基底的一侧；
其中，所述第一抑反射层的折射率大于所述第二抑反射层的折射率。
2.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，所述第一抑反射层的折射率为1.38，所述第二抑反射层的折射率为1.15。
3.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，所述抑反射膜层由多个颗粒沉积而成，其厚度在100纳米至200纳米之间。
4.根据权利要求3所述的光学镜片，其特征在于，所述抑反射膜层的厚度在150纳米至160纳米之间，所述第一抑反射层的厚度在35纳米至45纳米之间，所述第二抑反射层的厚度在110纳米至120纳米之间，所述颗粒的外径在60纳米至80纳米之间。
5.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，所述抑反射膜层的材料包括二氧化硅、一氧化硅和氟化镁中的一种或多种。
6.根据权利要求5所述的光学镜片，其特征在于，所述抑反射膜层的材料包括所述二氧化硅和所述一氧化硅，所述二氧化硅和所述一氧化硅比例为3:1。
7.一种光学镜片的制造方法，其特征在于，权利要求1-6任一项所述的光学镜片通过所述的光学镜片的制造方法制成，其中，所述的光学镜片的制造方法包括以下步骤：
将所述光学镜片的所述镜片基底置于镀膜腔内；
维持所述镀膜腔内的真空度在1.5E-2Pa～1.0E-3Pa之间；
加热所述镀膜腔，以25℃-100℃的镀膜温度蒸发抑反射材料，并向所述镀膜腔内通入气体介质，在所述镜片基底上以0.1A/s～3A/s的镀膜速率沉积形成所述抑反射膜层。
8.根据权利要求7所述的光学镜片的制造方法，其特征在于，所述镀膜腔内的镀膜真空度在2.0E-2Pa～1.0E-1Pa之间。
9.根据权利要求7所述的光学镜片的制造方法，其特征在于，所述抑反射材料为二氧化硅、一氧化硅和氟化镁中的一种或多种，所述气体介质为氩、氮气和氧气中的一种或多种。
10.根据权利要求9所述的光学镜片的制造方法，其特征在于，所述抑反射材料包括二氧化硅和一氧化硅，所述二氧化硅和所述一氧化硅的配比为3:1。
11.根据权利要求7所述的光学镜片的制造方法，其特征在于，所述气体介质包括氩和氧气，所述氩和所述氧气的比例为1:1。
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