[发明专利]一种陶瓷加工用抛光设备及抛光方法

说明书

一种陶瓷加工用抛光设备及抛光方法，包括陶瓷放置架，其用于放置待抛光的陶瓷；抛光机构，其包括容纳有液体的水槽、盖板，盖板密封盖设于水槽的槽口，盖板上开设有至少一个开口，开口上密封连接有防水弹性袋以将开口与水槽内的液体隔离开，防水弹性袋背对液体的一面设有抛光层；抓取机构，其包括真空吸盘，真空吸盘能够伸入陶瓷的内部，并吸附于该陶瓷的内壁上；旋转机构，其用于驱动抓取机构旋转；传送机构，其用于驱动抓取机构移动，以使该抓取机构能够将放置于陶瓷放置架上的陶瓷传送至穿过开口，并使该陶瓷扩张对应的防水弹性袋，进而使该陶瓷被防水弹性袋上的抛光层包覆。之后陶瓷能够相对防水弹性袋旋转，进而完成陶瓷外表面的抛光作业。

技术领域

本发明涉及陶瓷制作领域，尤其是指一种陶瓷加工用抛光设备及抛光方法。

背景技术

陶瓷抛光是在陶瓷研磨后为进一步提高表面精度，使用软质弹性或粘弹性的工具和微粉磨料，使工件表面达到镜面的光洁度，抛光的机理有力学的微小除去：磨料前端的微小切削作用除去表面凹凸。

传统的抛光均是采用具有规则形状的抛光轮等抛光机构对陶瓷进行抛光，但是需要抛光的陶瓷形状各异，固定形状的抛光轮难以满足各种形状的陶瓷。为了解决这一技术问题，本申请人已经于2020年3月31日申请过两件专利一种袋式陶瓷抛光设备(申请号202010246068.3)和一种气囊式陶瓷抛光设备(申请号202010244293.3)，但是实际应用之后，本申请人发现该两套设备仅能针对陶瓷的外侧壁进行抛光，而无法处理陶瓷的底壁，从而导致陶瓷成型之后，其底壁较为粗糙，对一部分陶瓷而言，会在很大程度上地影响观感。

发明内容

本发明提供一种陶瓷加工用抛光设备及抛光方法，其主要目的在于克服现有陶瓷抛光设备无法处理陶瓷底壁的缺陷。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

一种陶瓷加工用抛光设备，包括

陶瓷放置架，其用于放置待抛光的陶瓷；

抛光机构，其包括容纳有液体的水槽、盖板，所述盖板密封盖设于所述水槽的槽口，所述盖板上开设有至少一个开口，所述开口上密封连接有防水弹性袋以将所述开口与水槽内的液体隔离开，所述防水弹性袋背对所述液体的一面设有抛光层；

抓取机构，其包括真空吸盘，所述真空吸盘能够伸入所述陶瓷的内部，并吸附于该陶瓷的内壁上；

旋转机构，其用于驱动所述抓取机构旋转；

传送机构，其用于驱动所述抓取机构移动，以使该抓取机构能够将放置于所述陶瓷放置架上的陶瓷传送至穿过所述开口，并使该陶瓷扩张对应的所述防水弹性袋，进而使该陶瓷被防水弹性袋上的抛光层包覆。

优选的，还包括用于识别所述陶瓷和所述开口的位置的视觉摄像头。

优选的，所述传送机构包括用于驱动所述抓取机构前后移动的前后驱动组件、用于驱动所述抓取机构左右移动的左右驱动组件、上下驱动组件；所述真空吸盘装设于所述旋转机构的传动侧，以使该旋转机构能够驱动该真空吸盘旋转；所述旋转机构装设于所述上下驱动组件的传动端，以使该上下驱动组件能够驱动该旋转机构上下移动。

优选的，所述前后驱动组件包括前后驱动电机、前后丝杆、前后丝杆螺母，所述前后驱动电机驱动控制所述前后丝杆转动，所述前后丝杆螺母螺纹连接于所述前后丝杆上，并且该前后丝杆螺母与所述左右驱动组件固定连接。

优选的，所述防水弹性袋为弹性硅胶袋。

优选的，所述陶瓷放置架的上侧面上开设有数个定位槽，陶瓷容纳于该定位槽上，所述开口、真空吸盘的数量均与所述定位槽的数量相对应；相邻两个定位槽的中心之间的间距、相邻两个开口的中心之间的间距、相邻两个真空吸盘的中心之间的间距均相同。