[发明专利]一种陶瓷加工用抛光设备及抛光方法

权利要求书

1.一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：包括

陶瓷放置架，其用于放置待抛光的陶瓷；

抛光机构，其包括容纳有液体的水槽、盖板，所述盖板密封盖设于所述水槽的槽口，所述盖板上开设有至少一个开口，所述开口上密封连接有防水弹性袋以将所述开口与水槽内的液体隔离开，所述防水弹性袋背对所述液体的一面设有抛光层；

抓取机构，其包括真空吸盘，所述真空吸盘能够伸入所述陶瓷的内部，并吸附于该陶瓷的内壁上；

旋转机构，其用于驱动所述抓取机构旋转；

传送机构，其用于驱动所述抓取机构移动，以使该抓取机构能够将放置于所述陶瓷放置架上的陶瓷传送至穿过所述开口，并使该陶瓷扩张对应的所述防水弹性袋，进而使该陶瓷被防水弹性袋上的抛光层包覆；

所述抛光设备的抛光方法，包括以下步骤：

1)将盖板密封盖设到水槽的槽口，并往水槽内添加液体至防水弹性袋处；

2)传送机构启动，驱动抓取机构移动至与放置陶瓷放置架上的待抛光的陶瓷的开口上下相对应，再驱动抓取机构下降至真空吸盘与陶瓷的内底壁相抵触；

3)真空吸盘启动，进而使真空吸盘吸附于该陶瓷的内底壁上；

4)传送机构再次启动，驱动抓取机构带着陶瓷上升至回复原来的高度，再驱动抓取机构移动至与所述盖板上的开口上下相对应；

5)传送机构驱动抓取机构下降至陶瓷向下穿过盖板上的开口，以使该陶瓷扩张该防水弹性袋，之后继续往水槽内添加液体，直至该陶瓷被防水弹性袋上的抛光层包覆；

6)旋转机构启动，使得真空吸盘带着陶瓷相对防水弹性袋旋转；

7)抛光完毕，旋转机构停止动作，传送机构再次启动，驱动抓取机构上升至回复原来的高度，再驱动抓取机构移动至陶瓷置于卸料处，真空吸盘关闭，传送机构驱动抓取机构回复原位；

8)重复步骤2～7。

2.如权利要求1所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：还包括用于识别所述陶瓷和所述开口的位置的视觉摄像头。

3.如权利要求1所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：所述传送机构包括用于驱动所述抓取机构前后移动的前后驱动组件、用于驱动所述抓取机构左右移动的左右驱动组件、上下驱动组件；所述真空吸盘装设于所述旋转机构的传动侧，以使该旋转机构能够驱动该真空吸盘旋转；所述旋转机构装设于所述上下驱动组件的传动端，以使该上下驱动组件能够驱动该旋转机构上下移动。

4.如权利要求3所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：所述前后驱动组件包括前后驱动电机、前后丝杆、前后丝杆螺母，所述前后驱动电机驱动控制所述前后丝杆转动，所述前后丝杆螺母螺纹连接于所述前后丝杆上，并且该前后丝杆螺母与所述左右驱动组件固定连接。

5.如权利要求1所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：所述防水弹性袋为弹性硅胶袋。

6.如权利要求1所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：所述陶瓷放置架的上侧面上开设有数个定位槽，陶瓷容纳于该定位槽上，所述开口、真空吸盘的数量均与所述定位槽的数量相对应；相邻两个定位槽的中心之间的间距、相邻两个开口的中心之间的间距、相邻两个真空吸盘的中心之间的间距均相同。

7.如权利要求1所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：所述旋转机构包括旋转电机、旋转杆，所述旋转杆的第一端连接于所述旋转电机的传动端、第二端连接所述真空吸盘，所述旋转杆上位于所述真空吸盘与旋转电机之间的位置还装设有弹性块；所述真空吸盘吸附于陶瓷的内底壁上时，该弹性块与陶瓷的内侧壁相抵触。

8.如权利要求1所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：所述水槽上设有进水口和出水口。

9.如权利要求1所述一种陶瓷加工用抛光设备，其特征在于：通过视觉摄像头检测陶瓷和盖板的开口的位置信息，所述传送机构再依据该位置信息驱动抓取机构动作。