[发明专利]超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统

说明书

本发明提供了一种超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统，包括移动超滑片至目标基底上方，并朝向目标基底的目标区域向下移动超滑片；监测超滑片的表面亮度；亮度开始变化则继续下移超滑片；超滑片的亮度停止变化，则停止下移超滑片的步骤，利用超滑片在转移过程中的亮度变化，对超滑片和目标基底的接触度和接触时间进行判断，不需要借助额外的横向显微镜或横向摄像头等设备，既可以实现超滑片和目标基底之间接触度的判断，极大的缩减了设备成本，且降低了控制的难度，更容易实现自动化的控制。

技术领域

本发明涉及结构超滑的技术领域，具体涉及一种超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统。

背景技术

随着技术的发展和人类的需求，器件的小型化成为了一个发展趋势。对于超滑滑块等超滑片，其通常需要在源基底上进行大批量的生产，然后再转移至目标基底上。目前，将超滑片从源基底转移到目标基底的过程中，必须要判断超滑片是否已经接触上目标基底，以便于及时停止转移机构的下降过程，防止过大的压力使得超滑片受损。

对于超滑片和目标基底的接触情况，现有技术中一般需要采用光学显微镜进行横向的精确定位，然后利用侧面的光学显微镜或高分辨率相机进行高度方向上的精确定位，或者，在目标基底上设置压力传感器，通过压力的变化判断超滑片是否与目标基底接触。采用上述方式对超滑片和目标基底的位置进行确定，极大的增加了设备的成本，且控制难度较大，降低了转移效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统，以解决现有技术中对于超滑片是否转移到目标基底需要的设备较多，检测难度较大的技术问题。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：提供一种超滑片转移方法，包括如下步骤：

移动超滑片至目标基底上方，并朝向所述目标基底的目标区域向下移动所述超滑片；

监测所述超滑片的表面亮度；

所述亮度开始变化则继续下移所述超滑片；

所述超滑片的亮度停止变化，则停止下移所述超滑片。

进一步地，在所述超滑片下移至所述目标基底上时，所述超滑片的一侧先接触所述目标基底，另一侧逐渐下移并置于所述目标基底上。

进一步地，在移动并放平所述超滑片时，所述超滑片的亮度逐渐增大，所述超滑片的亮度最亮且停止变化时，所述超滑片平放至所述目标基底上。

进一步地，在所述目标基底的上方设置纵向显微镜，所述目标基底位于所述纵向显微镜的视野内。

进一步地，在移动所述超滑片前还包括如下步骤：

将所述目标基底移动至所述纵向显微镜下，检测所述目标基底是否置于所述纵向显微镜的视野范围内，并测量所述目标基底和所述纵向显微镜之间的间距是否到达阈值。

进一步地，在所述目标基底的上设置用于检测所述超滑片对所述目标基底的压力的压力传感器。

本发明还公开了一种超滑片转移控制系统，包括用于移动所述超滑片的转移单元，设于所述目标基底上方监测所述超滑片的亮度变化的监测单元，以及连接所述转移单元和所述监测单元的控制单元；所述监测单元监测所述超滑片的表面亮度变化，且所述超滑片的亮度停止变化，所述控制单元控制所述转移单元停止移动所述超滑片。

进一步地，所述监测单元包括纵向显微镜、成像单元和比对单元，所述成像单元通过所述纵向显微镜拍摄所述超滑片，所述比对单元对所述成像单元拍摄的图片进行比对，并对所述目标基底的亮度变化进行判断。

进一步地，还包括驱动所述目标基底移动的载台移动单元。

进一步地，还包括用于检测所述超滑片对所述目标基底的压力的压力检测单元。