[发明专利]超滑片转移方法以及超滑片转移控制系统

权利要求书

1.一种超滑片转移方法，其特征在于，包括如下步骤：

移动超滑片至目标基底上方，并朝向所述目标基底的目标区域向下移动所述超滑片；

监测所述超滑片的表面亮度；

所述亮度开始变化则继续下移所述超滑片,在所述超滑片下移至所述目标基底上时，所述超滑片的一侧先接触所述目标基底，另一侧逐渐下移并置于所述目标基底上；

在移动并放平所述超滑片时，所述超滑片的亮度逐渐增大，所述超滑片的亮度停止变化，则停止下移所述超滑片。

2.如权利要求1所述的超滑片转移方法，其特征在于，所述超滑片的亮度最亮且停止变化时，所述超滑片平放至所述目标基底上。

3.如权利要求1所述的超滑片转移方法，其特征在于：在所述目标基底的上方设置纵向显微镜，所述目标基底位于所述纵向显微镜的视野内。

4.如权利要求3所述的超滑片转移方法，其特征在于：在移动所述超滑片前还包括如下步骤：

将所述目标基底移动至所述纵向显微镜下，检测所述目标基底是否置于所述纵向显微镜的视野范围内，并测量所述目标基底和所述纵向显微镜之间的间距是否到达阈值。

5.如权利要求1至4任一项所述的超滑片转移方法，其特征在于：在所述目标基底的上方设置用于检测所述超滑片对所述目标基底的压力的压力传感器。

6.一种超滑片转移控制系统，其特征在于：包括用于移动所述超滑片的转移单元，设于目标基底上方监测所述超滑片的亮度变化的监测单元，以及连接所述转移单元和所述监测单元的控制单元；所述控制单元控制所述超滑片的一侧先接触所述目标基底，另一侧逐渐下移并置于所述目标基底上，所述监测单元监测所述超滑片的表面亮度逐渐增大，且所述超滑片的亮度停止变化时，所述控制单元控制所述转移单元停止移动所述超滑片。

7.如权利要求6所述的超滑片转移控制系统，其特征在于：所述监测单元包括纵向显微镜、成像单元和比对单元，所述成像单元通过所述纵向显微镜拍摄所述超滑片，所述比对单元对所述成像单元拍摄的图片进行比对，并对所述目标基底的亮度变化进行判断。

8.如权利要求7所述的超滑片转移控制系统，其特征在于：还包括驱动所述目标基底移动的载台移动单元。

9.如权利要求7所述的超滑片转移控制系统，其特征在于：还包括用于检测所述超滑片对所述目标基底的压力的压力检测单元。