[发明专利]一种光刻胶涂层厚度的计算方法

权利要求书

1.一种光刻胶涂层厚度的计算方法，其特征在于，包括：

提供至少两个衬底；

完成n次光刻胶涂胶，各所述衬底上均形成由下至上依次叠加的n层光刻胶涂层，不同所述衬底的光刻胶涂胶转速不同，同一所述衬底上的各层光刻胶涂层的光刻胶涂胶转速相同或不同；

测量各所述衬底上的第n层光刻胶涂层的厚度测量值，即为在不同转速下形成的各第n层光刻胶涂层的厚度测量值；

计算各所述衬底上的第n层光刻胶涂层的厚度理论值，即为在不同转速下形成的各第n层光刻胶涂层的厚度理论值；

基于所述各第n层光刻胶涂层的厚度测量值和所述各第n层光刻胶涂层的厚度理论值进行拟合，得到关于第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值的拟合方程；

利用所述拟合方程计算得到所述完成n次光刻胶涂胶后形成的所述衬底上的所述n层光刻胶涂层的总厚度理论修正值；

其中，n为大于或等于1的正整数。

2.如权利要求1所述的计算方法，其特征在于，所述基于所述各第n层光刻胶涂层的厚度测量值和所述各第n层光刻胶涂层的厚度理论值进行拟合，得到关于第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值的拟合方程，还包括：

所述拟合为线性拟合或二项式拟合。

3.如权利要求1所述的计算方法，其特征在于，所述测量各所述衬底上的第n层光刻胶涂层的厚度测量值，即为在不同转速下形成的各第n层光刻胶涂层的厚度测量值，还包括：

所述依次叠加的n层光刻胶涂层为自所述衬底上表面向上依次叠加的第一层光刻胶涂层、第二层光刻胶涂层、递增至第n层光刻胶涂层；

完成第一次光刻胶涂胶后，测量到的各所述衬底上的光刻胶涂层厚度为各所述衬底上的所述第一层光刻胶涂层的厚度测量值，即为在不同转速下形成的所述第一层光刻胶涂层的厚度测量值；

完成第n次光刻胶涂胶后，测量到的各所述衬底上的光刻胶涂层的厚度分别减去各相应的所述衬底上的所述第一层光刻胶涂层至第n-1层光刻胶涂层的厚度测量值，得到各所述衬底上的所述第n层光刻胶涂层的厚度测量值，即为在不同转速下形成的所述第n层光刻胶涂层的厚度测量值。

4.如权利要求1所述的计算方法，其特征在于，所述计算各所述衬底上的第n层光刻胶涂层的厚度理论值，即为在不同转速下形成的各第n层光刻胶涂层的厚度理论值，还包括：

采用以下方程式计算第n层光刻胶涂层的厚度理论值：

D_n²×ω_n＝d_n²×ω′_n

其中，

ω_n表示预先给定的已知的第n层光刻胶涂层的光刻胶涂胶基准转速；

ω′_n表示形成所述第n层光刻胶涂层的任意的光刻胶涂胶转速；

D_n表示在ω_n转速下形成的第n层光刻胶涂层的光刻胶涂层的厚度测量值；

d_n表示待计算的在ω′_n转速下形成的第n层光刻胶涂层的厚度理论值。

5.如权利要求4所述的计算方法，其特征在于，所述拟合包括线性拟合，以确定与所述第n层光刻胶涂层的厚度测量值和所述第n层光刻胶涂层的厚度理论值相关的的线性关系拟合系数，得到关于第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值的线性关系拟合方程：

其中，

a表示第一线性关系拟合系数，且为常数；

b表示第二线性关系拟合系数，且为常数；

ω_n表示预先给定的已知的第n层光刻胶涂层的光刻胶涂胶基准转速；

ω′_n表示形成所述第n层光刻胶涂层的任意的光刻胶涂胶转速；

D_n表示在ω_n转速下形成的光刻胶涂层的厚度测量值；

y_n表示待计算的在ω′_n转速下形成的第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值。