[发明专利]一种增强型柔性基材表面磁控溅射卷绕镀膜设备

说明书

本发明公开了一种增强型柔性基材表面磁控溅射卷绕镀膜设备，包括工作室、连接座，所述工作室的下端固定连接有支座，所述工作室上转动连接有展平辊，所述展平辊上绕接有基材，所述工作室上转动连接有两个对称的转动辊，所述转动辊上接触连接有基材，所述工作室上固定连接有四个磁控靶，所述磁控靶设置在转动辊的外侧，所述工作室上转动连接有收卷辊，所述收卷辊与基材接触，所述工作室的内部开设有滑槽，所述滑槽的内部滑动连接有滑块，所述滑块的内部滑动连接有固定杆。本发明涉及一种增强型柔性基材表面磁控溅射卷绕镀膜设备，具有调节基材张紧度以及加快镀膜成型效率的特点。

技术领域

本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体为一种增强型柔性基材表面磁控溅射卷绕镀膜设备。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，增强型柔性基材表面进行镀膜时也需使用到磁控溅射的方式进行镀膜。但是目前镀膜装置存在一些问题：1、对基材的张紧度不便于调节，基材表面平整度不足，导致镀膜效果达不到预期的效果；2、镀膜后成型的效率低。

发明内容：

本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种增强型柔性基材表面磁控溅射卷绕镀膜设备，解决了背景技术中提到的问题。

为了解决上述问题，本发明提供了一种技术方案：

一种增强型柔性基材表面磁控溅射卷绕镀膜设备，包括工作室、连接座，所述工作室的下端固定连接有支座，所述工作室上转动连接有展平辊，所述展平辊上绕接有基材，所述工作室上转动连接有两个对称的转动辊，所述转动辊上接触连接有基材，所述工作室上固定连接有四个磁控靶，所述磁控靶设置在转动辊的外侧，所述工作室上转动连接有收卷辊，所述收卷辊与基材接触，所述工作室的内部开设有滑槽，所述滑槽的内部滑动连接有滑块，所述滑块的内部滑动连接有固定杆，所述固定杆与工作室固定连接，所述固定杆的外侧设置有第一弹簧。

作为优选，所述工作室的内壁接触连接有第一铰接座，所述第一铰接座与滑块固定连接，所述第一铰接座上铰接有铰接杆，所述铰接杆上铰接有连接杆，所述连接杆上铰接有第二铰接座，所述第二铰接座与工作室的内壁固定连接，所述连接杆上转动连接有滚轮，所述滚轮与基材接触，所述工作室的内部开设有连接槽，所述连接槽与滑槽连通，所述连接槽的内部滑动连接有连接块，所述连接块与滑块固定连接，所述连接块的上端固定连接有连接座，所述连接座与工作室的外表面接触。

作为优选，所述连接座的内部开设有限位槽，所述限位槽的内部滑动连接有螺纹杆，所述螺纹杆上通过螺纹连接有两个对称的螺母，所述螺母与连接座接触，所述螺纹杆上固定连接有两个对称的限位座，所述限位座与工作室的侧壁固定连接，所述工作室的内壁固定连接有固定管，所述固定管的上端固定连接有排气口，所述排气口的内部开设有多个均匀分布的出气口，工作室的内壁固定连接有气泵，所述气泵上设置有排气管，所述排气管接入固定管内，所述气泵上设置有进气管。

作为优选，所述工作室的下端固定连接有过滤箱，所述过滤箱上设置有观察窗，所述过滤箱的内部设置有进气管，所述过滤箱的内部滑动连接有下盖，所述下盖的内部开设有进气口，所述过滤箱的内部通过螺纹连接有限位螺钉，所述限位螺钉的尾端与下盖卡接，所述下盖的内部滑动连接有两个对称的竖杆，所述竖杆的下端固定连接有限位环，所述限位环与下盖接触，所述竖杆的外侧设置有第二弹簧，所述竖杆的上端固定连接有安装板，所述安装板与过滤箱滑动连接，所述安装板的内部设置有滤网，所述安装板的上端固定连接有两个对称的定位座，所述定位座为一种橡胶材质制成，所述定位座的内部开设有定位槽，所述定位槽的内部卡接有定位块，所述定位块上固定连接有干燥盒，所述干燥盒与安装板接触，所述干燥盒上设置有通孔。

作为优选，所述支座的数量为四个，四个所述支座在工作室的下端均匀分布。

作为优选，所述第一弹簧的一端与滑块接触，所述第一弹簧的另一端与工作室的内壁接触。