[发明专利]用于确定电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质

说明书

根据本公开的示例实施例，提供了一种确定电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质。该方法包括：针对初始的电路版图，确定初始全局成本，全局成本指示电路版图的着色不平衡程度。该方法还包括依次针对多个子区域中的至少一个子区域：执行颜色转换以更新电路版图；确定经更新的电路版图的更新全局成本；以及如果确定更新全局成本小于初始全局成本，保留颜色转换。该方法还可以包括：基于所述多个子区域中的至少一个子区域的所述颜色转换的结果，生成最终的电路版图。在根据本公开的确定电路版图的方案而获得最终的电路版图中，具有第一颜色的几何图形和具有第二颜色的几何图形的面积和密度都彼此接近，因此不同子版图的负载被均衡。

技术领域

本公开的实施例主要涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及用于确定电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质。

背景技术

随着半导体制造程序继续进步，几十年来，功能组件的尺寸已不断地缩减，而每器件的诸如晶体管的功能组件的量已在稳固地增加，此遵循通常被称作“莫耳定律(Moore'slaw)”的趋势。在当前先进技术下，使用光刻装置来制造器件层，光刻装置使用来自深紫外线(DUV)照明源的UV辐射而将设计布局投影至基板上，从而产生尺寸充分地低于100nm的个别功能组件，亦即，尺寸小于来自该照明源(例如，193nm照明源)的辐射的波长的一半(例如，最小的设计节距小于78nm)。随着目标图案的临界尺寸日益减小，在晶片上再现目标图案变得愈发困难。

双重曝光技术(DPT)或多重曝光技术(MPT)允许将给定目标图案的特征分离到两个不同的掩模中、并接着独立成像来形成所需的图案，从而在每个掩模中，最小设计节距能够足够大，以允许继续使用193nm的照明源的辐射。当利用双重曝光技术(DPT)或多重曝光技术(MPT)对电路版图进行分解时，电路版图上的几何图形被着色成两种或多种不同的颜色，具有同一颜色多个几何图形例如在制造厂中将被分配到一个掩模，以对晶圆进行加工。

但是根据当前的分解技术，在对设计版图执行分解(也就是着色)之后，经常会存在所得到的子版图上的负载不均衡的问题。

发明内容

根据本公开的示例实施例，提供了一种用于确定电路版图的方案。

在本公开的第一方面，提供了一种确定电路版图的方法。该方法可以包括：针对被填充有第一颜色和第二颜色并且包括多个子区域的电路版图，确定初始全局成本，全局成本指示电路版图的着色不平衡程度。该方法还可以包括：依次针对多个子区域中的至少一个子区域，执行颜色转换以更新电路版图，颜色转换将子区域中的第一颜色改变为第二颜色并且将第二颜色改变为第一颜色；确定经更新的电路版图的更新全局成本；以及如果确定更新全局成本小于初始全局成本，保留颜色转换。该方法还可以包括：基于多个子区域中的至少一个子区域的颜色转换的结果，生成最终的电路版图。

在本公开的另一方面，提供一种电子设备，包括：处理器；以及与处理器耦合的存储器，存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使电子设备执行动作。这些动作可以包括：针对被填充有第一颜色和第二颜色并且包括多个子区域的电路版图，确定初始全局成本，全局成本指示电路版图的着色不平衡程度。这些动作还可以包括依次针对多个子区域中的至少一个子区域，执行颜色转换以更新电路版图，颜色转换将子区域中的第一颜色改变为第二颜色并且将第二颜色改变为第一颜色；确定经更新的电路版图的更新全局成本；以及如果确定更新全局成本小于初始全局成本，针对子区域，保留颜色转换。这些动作还可以包括：基于多个子区域中的至少一个子区域的颜色转换的结果，生成最终的电路版图。

在一些实施例中，这些动作还可以包括：如果确定更新全局成本不小于初始全局成本，放弃颜色转换。

在一些实施例中，确定初始全局成本可以包括：利用扫描窗口，多次扫描电路版图。确定初始全局成本还可以包括针对多次扫描中的每次扫描：确定扫描窗口中的第一颜色的第一面积和第二颜色的第二面积；以及基于第一颜色的第一面积和第二颜色的第二面积，确定着色不平衡值；以及基于针对多次扫描而确定的多个着色不平衡值，确定初始全局成本。