[发明专利]一种匣钵的干法压制成型方法、设备及匣钵

权利要求书

1.一种匣钵的干法压制成型方法，其特征在于，包括：

将匣钵粉料按照预设高度布料在模框、底部下模芯和侧部下模形成的模腔中；底部下模芯和侧部下模将位于其上方的匣钵粉料分为底部粉料集合体和侧边粉料集合体；

将上模芯压下到所述模腔的上表面；

将所述侧部下模顶起预设高度，形成预压坯体；

将所述上模芯向所述模腔压下，并维持底部下模芯和侧部下模不动，通过上模芯将所述预压坯体压制形成匣钵；

压制结束后，提起上模芯，降下模框，取出匣钵。

2.如权利要求1所述的匣钵的干法压制成型方法，其特征在于，包括

(1)确定匣钵底部的厚度T_s、侧边的高度H_s和压缩比ε；

(2)将侧部下模和模框移动至初始位置，以使底部下模芯、侧部下模和模框围合形成模腔；所述模腔包括容纳底部粉料集合体的第一模腔和容纳侧边粉料集合体的第二模腔；

其中，第一模腔的深度H_p和第二模腔的深度T_p为：

H_p＝εT_s

T_p＝εH_s

其中，H_p为第一模腔的深度，T_p为第二模腔的深度，ε为压缩比，T_s为匣钵底部的厚度，H_s为匣钵侧边的高度；

(3)将匣钵粉料填充到所述模腔中；

(4)将上模芯压下到所述模腔的上表面；

(5)将所述侧部下模顶起，以对匣钵粉料进行预压，形成预压坯体；

其中，所述侧部下模的顶起位移为：

x＝T_p-H_p+T_s-H_s

其中，x为预压过程中侧部下模的顶起位移，H_p为第一模腔的深度，T_p为第二模腔的深度，T_s为匣钵底部的厚度，H_s为匣钵侧边的高度；

(6)将所述上模芯向所述模腔压下，并维持底部下模芯和侧部下模不动，通过上模芯将所述预压坯体压制形成匣钵；

其中，所述上模芯的压下位移为：

y＝H_p-T_s

其中，y为压制过程中上模芯的压下位移，H_p为第一模腔的深度，T_s为匣钵底部的厚度；

(7)压制结束后，提起上模芯，向下移动模框；

其中，所述模框的下移位移z为：

z＝H_p+H_s-T_s

其中，z为压制结束后模框的下移位移，H_p为第一模腔的深度，T_s为匣钵底部的厚度，H_s为匣钵侧边的高度；

(8)取出匣钵，并将模框、侧部下模恢复至初始位置。