[发明专利]一种高比表面积低残氨黄色氧化钨及其制备方法

说明书

本发明公开了一种高比表面积低残氨黄色氧化钨及其制备方法，涉及氧化钨技术领域，将仲钨酸铵加入设有六个温度控制区的煅烧炉中，仲钨酸铵在六个温度区依次进行氧化煅烧，冷却和过筛得氧化钨；第一温度控制区温度为420～650℃；第二温度控制区温度大于或等于第一控温度制区；第三温度控制区温度大于或等于第二温度控制区；第四温度控制区温度大于或等于第三温度控制区；第五温度控制区温度大于或等于第四温度控制区；第六温度控制区温度为690～800℃，且大于或等于第五温度控制。本发明的有益效果是制得的黄色氧化钨比表面积≥5m²/g，残氨量≤0.01％，表面积大有利于生产粗颗粒钨粉及复合陶瓷着色，同时降低了残氨量，从而缓解粉末冶金行业处理氨的压力。

技术领域

本发明涉及氧化钨技术领域，具体涉及一种高比表面积低残氨黄色氧化钨及其制备方法。

术语“铵钨化合物”是钨同(杂)多酸铵盐化合物及其煅烧产物的统称。

术语APT为“仲钨酸铵”的简称。

术语“氨水料”是指煅烧铵钨化合物后的产物水、氨、粉尘等物质的混合物。

背景技术

钨是一种难熔的有色金属，也是一种重要的战略资源，因其具有熔点高、硬度大、延性强、耐磨和耐腐蚀等优良性能而得到广泛应用。

在钨氧化物氢还原制取金属钨粉的过程中，所用氧化钨的性质对还原过程及最终钨粉的质量有较大的影响。氧化钨的比表面积是指单位质量氧化钨粉所具有的总表面积，在氢还原时有利于氢的渗入和水蒸气的逸出；在制取掺杂的灯用钨丝时亦要求钨氧化物比表面大，裂纹多，以便于掺杂。同时由于高比表面积的氧化钨化学活性高，还原速度大，因此可以加快推舟速度和加大装舟量(或提高转炉的给料量)，从而显著的提高钨粉的生产效率。亦有大量的文献和生产实践表明大比表面积的氧化钨有利于制取粒度更细的钨粉、碳化钨粉。目前钨粉、碳化钨粉技术正向着超细(纳米)化、超粗化、超纯化、集中化方向发展。大比表面积的氧化钨将进一步推动超细钨粉、碳化钨粉的发展。

黄色氧化钨呈细碎的黄色晶体状粉末。它是在煅烧仲钨酸氨过程中，严格控制温度，脱离结合水或水和氨。精准的时间和温度的控制，在很大程度上影响氧化钨的物理特性。在黄色氧化钨生产过程中，其生产条件对比表面积、残氨的影响是相矛盾，一般很难兼顾高比表面积和低残氨，但随着环保要求的提高，污染因子氨监管日益加剧，越来越要求氧化钨中残留的氨尽量低。

发明内容

本发明的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种高比表面积低残氨黄色氧化钨及其制备方法。

本发明的技术解决方案如下：

一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法，包括：将原料仲钨酸铵加入设置有六个温度控制区的煅烧炉中，仲钨酸铵在六个温度控制区中依次进行氧化煅烧，冷却和过筛得到氧化钨；其中，

第一温度控制区的温度为420～650℃；

第二温度控制区的温度大于或等于第一控温度制区；

第三温度控制区的温度大于或等于第二温度控制区；

第四温度控制区的温度大于或等于第三温度控制区；

第五温度控制区的温度大于或等于第四温度控制区；

第六温度控制区的温度大于或等于第五温度控制区，且第六温度控制区温度为690～800℃。

作为优选，第二温度控制区的与第一控温度制区的温差为0～50℃，第三温度控制区的与第二控温度制区的温差为0～50℃，第四温度控制区的与第三控温度制区的温差为0～50℃，第五温度控制区的与第四控温度制区的温差为0～150℃，第六温度控制区的与第五控温度制区的温差为0～50℃。