[发明专利]一种高比表面积低残氨黄色氧化钨及其制备方法有效
| 申请号： | 202011465246.8 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112479259B | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 李继红;胡祖辉;邓冲;卢瑞平;陈亿;谢忠 | 申请（专利权）人： | 江钨世泰科钨品有限公司 |
| 主分类号： | C01G41/02 | 分类号： | C01G41/02 |
| 代理公司： | 南昌贤达专利代理事务所(普通合伙) 36136 | 代理人： | 金一娴 |
| 地址： | 341000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 表面积 低残氨 黄色 氧化钨 及其 制备 方法 | ||
1.一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法，其特征在于，包括：将原料仲钨酸铵加入设置有六个温度控制区的回转炉中，仲钨酸铵在六个温度控制区中依次进行氧化煅烧，冷却和过筛得到氧化钨；其中，
第一温度控制区的温度为420~650℃；
第二温度控制区的温度大于或等于第一控温度制区；
第三温度控制区的温度大于或等于第二温度控制区；
第四温度控制区的温度大于或等于第三温度控制区；
第五温度控制区的温度大于或等于第四温度控制区；
第六温度控制区温度为690~800℃，且大于或等于第五温度控制区；
第二温度控制区的与第一控温度制区的温差为0~50℃，第三温度控制区的与第二控温度制区的温差为0~50℃，第四温度控制区的与第三控温度制区的温差为0~50℃，第五温度控制区的与第四控温度制区的温差为0~150℃，第六温度控制区的与第五控温度制区的温差为0~50℃；
炉膛内相对真空度-40~-200Pa；炉管转速1.5-2.5r/min；煅烧时间为30~60min。
2.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法，其特征在于，第二温度控制区的温度为450~680℃；第三温度控制区的温度为550~700℃；第四温度控制区的温度为600~700℃；第五温度控制区的温度为650~800℃。
3.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法，其特征在于，第一温度控制区的温度为450~650℃；第二温度控制区的温度为450~660℃；第三温度控制区的温度为600~670℃；第四温度控制区的温度为600~680℃；第五温度控制区的温度为690~750℃；第六温度控制区温度为690~750℃。
4.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法，其特征在于，第一温度控制区的温度为650℃；第二温度控制区的温度为660℃；第三温度控制区的温度为670℃；第四温度控制区的温度为680℃；第五温度控制区的温度为690℃；第六温度控制区的温度为690℃。
5.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法，其特征在于，第一温度控制区的温度为550℃；第二温度控制区的温度为600℃；第三温度控制区的温度为600℃；第四温度控制区的温度为600℃；第五温度控制区的温度为720℃；第六温度控制区的温度为720℃。
6.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法，其特征在于，第一温度控制区的温度为450℃；第二温度控制区的温度为450℃；第三温度控制区的温度为600℃；第四温度控制区的温度为600℃；第五温度控制区的温度为750℃；第六温度控制区的温度为750℃。
7.一种高比表面积低残氨黄色氧化钨，其特征在于，采用权利要求1~6所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备方法得到，其比表面积≥5m2/g，残氨量≤0.01%。
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