[发明专利]一种高精度二维快速反射镜装置在审
| 申请号： | 202011465177.0 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112666859A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 孙海晶;莫运安;裴伊楼 | 申请（专利权）人： | 武汉华中天纬测控有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/042 | 分类号： | G05B19/042 |
| 代理公司： | 武汉凌达知识产权事务所(特殊普通合伙) 42221 | 代理人： | 刘念涛 |
| 地址： | 430299 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 二维 快速 反射 装置 | ||
1.一种高精度二维快速反射镜装置，其特征在于：包括ZYNQ控制器和基座（11）；所述的基座（11）上依次设置有二维快速反射镜组件（15）、驱动二维快速反射镜组件（15）的驱动器（13）以及为二维快速反射镜组件（15）提供机械支撑且具有两个转动自由度的支撑组件（14），所述的基座（11）上还通过底板安装有测量反射镜偏转角度的电涡流传感器（12）；所述的ZYNQ控制器包括ZYNQ核心板电路（21）以及连接ZYNQ核心板电路（21）的电源管理电路（22）、DDR芯片（26）、FLASH（27）、时钟电路（28）和异步串口通讯电路（25），所述的ZYNQ核心板电路（21）分别通过A/D转换器（23）和D/A转换器（24）连接电涡流传感器（12）和驱动器（13）。
2.根据权利要求1所述的一种高精度二维快速反射镜装置，其特征在于，所述的ZYNQ核心板电路（21）采用xilinx公司的ZYNQ7000系列。
3.根据权利要求1所述的一种高精度二维快速反射镜装置，其特征在于，所述的DDR芯片（26）采用Micron公司的MT41K256M16HA-145系列。
4.根据权利要求1所述的一种高精度二维快速反射镜装置，其特征在于，所述的A/D转换器（23）采用AD7982芯片。
5.根据权利要求1所述的一种高精度二维快速反射镜装置，其特征在于，所述的D/A转换器（24）采用DAC1131芯片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华中天纬测控有限公司，未经武汉华中天纬测控有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011465177.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
