[发明专利]正交加窗正交频分复用系统、主动干扰抵消方法及应用有效

专利信息
申请号: 202011442614.7 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN112565150B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 代光发;陈少平;饶文贵;王勤;杨杨 申请(专利权)人: 中南民族大学
主分类号: H04L27/26 分类号: H04L27/26;H04L25/03
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 杨采良
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 交加 正交 频分复用 系统 主动 干扰 抵消 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种正交加窗正交频分复用系统,其特征在于,所述正交加窗正交频分复用系统包括:

串并转换模块,用于将串行数据转换成并行数据;

符号映射模块,用于将二进制信息映射为多进制的通信星座符号;

子载波映射模块,用于将符号分配到子载波,将不用的子载波置零;

多载波调制模块,用于完成对信号从频域到时域的调制转换;

并串转换模块,用于将并行信号转成串行信号;

正交加窗模块,用于对时域信号加窗成形;

正交主动频谱泄漏抵消模块,用于计算主动旁瓣抵消信号,并作减法运算实现频谱泄漏抵消;

主动干扰抵消信号的频谱在fk∈ψ处与正交频分复用信号的频谱泄漏相互抵消;

上变频模块,用于将信号由基带信号转换成频带信号。

2.如权利要求1所述的正交加窗正交频分复用系统,其特征在于,所述正交加窗模块与频谱泄漏模块同时采用正交加窗设计,采用升余弦波形实现对数据子载波信号的正交加窗,即加窗后的数据子载波仍然是正交的,不产生任何子载波间干扰,频谱泄漏在整数倍子载波间隔位置总为0;加窗后的符号长度是多载波调制器输出符号长度的(1+α)倍,α为升余弦窗函数的滚降因子。

3.如权利要求1所述的正交加窗正交频分复用系统,其特征在于,所述正交主动频谱泄漏抵消模块,包括:滚降因子自适应的窗函数g(t),干扰抵消子载波波形的窗函数时域定义为:

其中,α的值等于应用于数据子载波的窗函数的滚降因子,是滚降速度调节因子;每个干扰抵消子载波应用形式相同的窗函数g(t),但是参数的取值不同,参数在旁瓣抵消效果最大化的过程中确定。

4.如权利要求3所述的正交加窗正交频分复用系统,其特征在于,所述干扰抵消子载波均位于正交频率位置;对干扰抵消子载波CC应用权利要求3所述的窗函数后,CC的频谱和数据子载波正交,频谱旁瓣在整数倍子载波间隔位置总为0。

5.一种主动干扰抵消方法,其特征在于,所述主动干扰抵消方法包括:

步骤一,计算正交加窗后的正交频分复用系统数据子载波在频率fk∈ψ的多个频谱抑制区的泄漏

步骤二,计算主动干扰抵消信号的频谱旁瓣;

步骤三,令主动干扰抵消信号的频谱在fk∈ψ处与正交频分复用信号的频谱泄漏相互抵消,求解权重系数w和窗函数的可调参数

步骤四,合成干扰抵消信号,并对已加窗正交频分复用信号作主动干扰抵消;

步骤一中,所述计算正交加窗后的正交频分复用系统数据子载波在频率fk∈ψ的多个频谱抑制区的泄漏包括:

其中,是调制前的长度为N的复数域符号;是其第m列由矢量pm构成的矩阵,即:

其中,pm表示第m个子载波在频率fk处的频谱取值,由数据子载波所应用的升余弦窗函数波形和数据子载波的频率m确定,元素定义为:

步骤二中,所述计算主动干扰抵消信号的频谱旁瓣,包括:

令矢量qm表示第m个CC子载波的频谱在频率fk∈ψ处的取值,由CC所采用的滚降速度可变窗函数及CC的频率m确定,元素

那么由κ个子载波频谱向量构成其频谱矩阵Q=[q0,q1,…,qk-1];假设频域旁瓣抵消子载波矢量为w,那么它在目标抑制频段fk∈ψ的频谱写为:

步骤三中,所述主动干扰抵消信号与正交频分复用信号的频谱泄漏相互抵消,求解权重系数w和窗函数的可调参数包括:

令旁瓣抵消信号的频谱与数据子载波的频谱在旁瓣抑制区频率fk∈ψ处相互抵消,最小化带外的频谱泄漏,得到目标优化方程:

即等价于:

其中,是数据子载波在fk∈ψ的频谱泄漏采样值,采样点的个数等于或大于干扰抵消基函数个数κ;

将系数矩阵Q中的κ个未知变量从系数矩阵中分离,并写到待求解的未知变量中:

对求解过程简化:

令全部为零,方程求解免去系数分离过程;采用最小二乘方法求解所得的结果为其中上标表示摩尔-彭若斯广义逆矩阵,即

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中南民族大学,未经中南民族大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011442614.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top