[发明专利]一种纵向磁场真空灭弧室触头

说明书

本发明提供的一种纵向磁场真空灭弧室触头，包括一对导电杆、一对触头杯和一对触头片，其中每个触头杯的杯口和杯底分别设置有一个触头片和一个导电杆；同时，两个触头杯杯口相对布置；每个触头杯杯底沿其圆周方向均布有若干个呈螺旋状分布的第一槽，且两个触头杯杯底开设的第一槽的螺旋方向相同；每个触头杯杯壁上沿其圆周方向开设有若干个斜槽，且两触头杯杯壁的开槽方向相同；每个触头片边缘沿圆周方向开设有呈螺旋状分布的第二槽，且触头片开槽与触头杯杯壁上的斜槽槽口对齐；本发明涉及的真空灭弧室触头结构的纵向磁场强度最大值由中心移至边缘区域，真空电弧则在靠近磁场较强的触头边缘区域燃烧，有利于弧后带电离子的扩散及介质强度的恢复。

技术领域

本发明属于电器技术领域，具体涉及一种纵向磁场真空灭弧室触头。

背景技术

由于真空开关一系列独特的优点，使其在中压领域占据了主导地位。随着电力系统对开关电器提出的要求越来越高以及科学技术的发展，开发产品性能好、结构简单、生产成本低的真空灭弧室是提高产品竞争力的迫切需求。真空灭弧室是真空断路器的核心器件，触头结构参数的合理设计对提高真空开关电流开断能力起着至关重要的作用。

如果靠近触头边缘区域的纵向磁场较强，中心区域纵向磁场相对较弱，这样真空电弧就会在靠近磁场较强的触头边缘区域燃烧，电流过零后有利于弧后带电离子的扩散及介质强度的恢复。因此发明了一种纵向磁场真空灭弧室触头，该触头具有触头中心区域纵向磁场相对较弱，边缘区域较强的分布特性。

发明内容

本发明的目的在于提供一种纵向磁场真空灭弧室触头，实现了触头边缘区域纵磁强度较强，中心区域纵向磁场相对较弱的分布。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是：

本发明提供的一种纵向磁场真空灭弧室触头，包括一对导电杆、一对触头杯和一对触头片，其中，每个触头杯的杯口和杯底分别设置有一个触头片和一个导电杆；同时，两个触头杯的杯口相对布置；

每个触头杯的杯底沿其圆周方向均布有若干个呈螺旋状分布的第一槽，并且两个触头杯杯底开设的第一槽的螺旋方向相同；

每个触头杯的杯壁上沿其圆周方向开设有若干个斜槽，并且两触头杯杯壁的开槽方向相同；

每个触头片边缘沿圆周方向开设有非径向呈螺旋状分布的第二槽，并且两个触头片边缘开设的第二槽的螺旋方向相同，同时触头片开槽与触头杯杯壁上的斜槽槽口对齐。

优选地，呈螺旋状分布的第一槽为弧形槽、万字槽或直槽。

优选地，所述触头杯为圆柱状结构或圆台状结构。

优选地，非径向呈螺旋状分布的第二槽为反向弧形槽。

优选地，非径向呈螺旋状分布的第二槽为万字槽或直槽。

优选地，每个触头杯中放置用于支撑对应触头片的不锈钢支架；所述触头片上开设有中心孔，所述中心孔与不锈钢支架相配合。

优选地，包括一对导电杆、一对触头杯和一对触头片，其中，每个触头杯的杯口和杯底分别设置有一个触头片和一个导电杆；同时，两个触头杯的杯口相对布置；

每个触头杯的杯底沿其圆周方向均布有若干个呈螺旋状分布的第一槽，并且两个触头杯杯底开设的第一槽的螺旋方向相同；

每个触头杯的杯壁上沿其圆周方向开设有若干个斜槽，并且两触头杯杯壁的开槽方向相同；

每个触头片边缘沿圆周方向开设有非径向呈螺旋状分布的第二槽，并且两个触头片边缘开设的第二槽的螺旋方向相同，同时触头片开槽与触头杯杯壁上的斜槽槽口对齐；

呈螺旋状分布的第一槽为弧形槽、万字槽或直槽；

所述触头杯为圆柱状结构或圆台状结构；