[发明专利]一种纵向磁场真空灭弧室触头在审
| 申请号： | 202011431717.3 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN112420444A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 修士新;贾申利;屈宸辰;韦乐铭;杨金望;姜雨孜 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 贺小停 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纵向 磁场 真空 灭弧室触头 | ||
1.一种纵向磁场真空灭弧室触头，其特征在于，包括一对导电杆(1)、一对触头杯(2)和一对触头片(3)，其中，每个触头杯(2)的杯口和杯底分别设置有一个触头片(3)和一个导电杆(1)；同时，两个触头杯(2)的杯口相对布置；
每个触头杯(2)的杯底沿其圆周方向均布有若干个呈螺旋状分布的第一槽(201)，并且两个触头杯(2)杯底开设的第一槽的螺旋方向相同；
每个触头杯(2)的杯壁上沿其圆周方向开设有若干个斜槽(202)，并且两触头杯(2)杯壁的开槽方向相同；
每个触头片边缘沿圆周方向开设有非径向呈螺旋状分布的第二槽(301)，并且两个触头片(3)边缘开设的第二槽的螺旋方向相同，同时触头片开槽与触头杯(2)杯壁上的斜槽槽口对齐。
2.根据权利要求1所述的一种纵向磁场真空灭弧室触头，其特征在于，呈螺旋状分布的第一槽为弧形槽、万字槽或直槽。
3.根据权利要求1所述的一种纵向磁场真空灭弧室触头，其特征在于，所述触头杯(2)为圆柱状结构或圆台状结构。
4.根据权利要求1所述的一种纵向磁场真空灭弧室触头，其特征在于，非径向呈螺旋状分布的第二槽为反向弧形槽。
5.根据权利要求1所述的一种纵向磁场真空灭弧室触头，其特征在于，非径向呈螺旋状分布的第二槽为万字槽或直槽。
6.根据权利要求1所述的一种纵向磁场真空灭弧室触头，其特征在于，每个触头杯(2)中放置用于支撑对应触头片(3)的不锈钢支架；所述触头片(3)上开设有中心孔，所述中心孔与不锈钢支架相配合。
7.根据权利要求1所述的一种纵向磁场真空灭弧室触头，其特征在于，包括一对导电杆(1)、一对触头杯(2)和一对触头片(3)，其中，每个触头杯(2)的杯口和杯底分别设置有一个触头片(3)和一个导电杆(1)；同时，两个触头杯(2)的杯口相对布置；
每个触头杯(2)的杯底沿其圆周方向均布有若干个呈螺旋状分布的第一槽(201)，并且两个触头杯(2)杯底开设的第一槽的螺旋方向相同；
每个触头杯(2)的杯壁上沿其圆周方向开设有若干个斜槽(202)，并且两触头杯(2)杯壁的开槽方向相同；
每个触头片边缘沿圆周方向开设有非径向呈螺旋状分布的第二槽(301)，并且两个触头片(3)边缘开设的第二槽的螺旋方向相同，同时触头片开槽与触头杯(2)杯壁上的斜槽槽口对齐；
呈螺旋状分布的第一槽为弧形槽、万字槽或直槽；
所述触头杯(2)为圆柱状结构或圆台状结构；
非径向呈螺旋状分布的第二槽为反向弧形槽、万字槽或直槽。
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