[发明专利]光刻胶、光刻胶的图案化方法及生成印刷电路板的方法

说明书

本发明公开了一种光刻胶，包括有机溶剂和钛锆氧化物纳米粒子，所述钛锆氧化物纳米粒子，所述钛锆氧化物纳米粒子的分子通式为Ti_xZr_yO_zL_n,其中，x、y、z分别独立地选自1～6中的任意整数，n选自5～30中的任意整数，L为有机物配体，所述有机物配体具有可自由基引发聚合的基团。本发明还公开了一种光刻胶的图案化方法。本发明还公开了一种印刷电路板的方法。

技术领域

本发明涉及光刻胶技术领域，特别是涉及一种光刻胶、光刻胶的图案化方法及生成印刷电路板的方法。

背景技术

随着大规模集成电路集成度的不断提高，其特征尺寸越来越小，加工尺寸已经进入纳米级。集成电路的发展需要光刻技术的支持，光刻胶/光致抗蚀剂是光刻技术最关键的基础材料。光刻胶是一类对光或者射线敏感的混合材料，通常由光刻胶主体材料、光敏剂、溶剂和其他一些添加剂等组成，光刻胶主体材料主要有成膜树脂、分子玻璃化合物、无机氧化物等几类。光刻胶经紫外光、电子束、离子束、准分子激光束、X射线等曝光源的照射或辐射，其溶解性、黏附性等性质发生明显变化，可以在适当的溶剂中显影形成光刻图形。

近年来，光刻图形越来越精细，光刻胶膜的厚度也逐渐减小，这就要求光刻胶不仅要具有好的抗刻蚀性质而且具有曝光前后溶解性差异大的特点。为了增强光刻胶的抗刻蚀性，已经开发了不同的含金属氧化物的光刻胶材料。然而，现有的金属氧化物容易与空气中的水反应，使得曝光区和非曝光区溶解性差异变化不大，造成光刻图形分辨率不高、线边缘粗糙度程度高。

发明内容

基于此，有必要针对传统光刻胶的光刻图形分辨率不高、线边缘粗糙度程度高的问题，提供一种光刻胶、光刻胶的图案化方法及生成印刷电路板的方法。

一种光刻胶，包括有机溶剂和钛锆氧化物纳米粒子，所述钛锆氧化物纳米粒子，所述钛锆氧化物纳米粒子的分子通式为Ti_xZr_yO_zL_n,其中，x、y、z分别独立地选自1～6中的任意整数，n选自5～30中的任意整数，L为有机物配体，所述有机物配体具有可自由基引发聚合的基团。

在其中一个实施例中，所述钛锆氧化物纳米粒子的分子通式为Ti₂Zr₆O₆L₂₀或Ti₂Zr₄O₅L₁₂。

在其中一个实施例中，所述钛锆氧化物纳米粒子在所述光刻胶中的质量百分数为1％～50％。

在其中一个实施例中，所述有机物配体为含有碳碳双键的有机物配体。

在其中一个实施例中，所述有机物配体选自丙烯酸、甲基丙烯酸和3,3-二甲基丙烯酸中的任意一种或多种。

在其中一个实施例中，所述光刻胶包括光致产酸剂，所述光致产酸剂能够在光照下分解形成光酸催化剂，所述光酸催化剂能够催化所述钛锆氧化物纳米粒子的团聚；和/或，所述光刻胶包括光引发剂，所述光引发剂能够引发所述钛锆氧化物纳米粒子的团聚。

在其中一个实施例中，所述有机溶剂选自丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚、丙二醇单醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、氯仿及二氯甲烷中的任意一种或多种。

一种光刻胶组合产品，包括所述的光刻胶以及显影剂。

在其中一个实施例中，所述显影剂选自甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、均三甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、4-甲基-2-戊醇、4-甲基-2-戊酮、甲基乙基酮、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚、丙二醇单醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、2-丁酮、2-庚酮、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、正己烷及环己烷中的任意一种或多种。

一种所述的光刻胶的图案化方法，包括以下步骤：