[发明专利]光刻胶、光刻胶的图案化方法及生成印刷电路板的方法

权利要求书

1.一种光刻胶，其特征在于，包括有机溶剂和钛锆氧化物纳米粒子，所述钛锆氧化物纳米粒子的分子通式为Ti_xZr_yO_zL_n,其中，x、y、z分别独立地选自1～6中的任意整数，n选自5～30中的任意整数，L为有机物配体，所述有机物配体具有可自由基引发聚合的基团。

2.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述钛锆氧化物纳米粒子的分子通式为Ti₂Zr₆O₆L₂₀或Ti₂Zr₄O₅L₁₂。

3.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述钛锆氧化物纳米粒子在所述光刻胶中的质量百分数为1％～50％。

4.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述有机物配体为含有碳碳双键的有机物配体。

5.根据权利要求4所述的光刻胶，其特征在于，所述有机物配体选自丙烯酸、甲基丙烯酸和3,3-二甲基丙烯酸中的任意一种或多种。

6.根据权利要求1～5任一项所述的光刻胶，其特征在于，所述光刻胶包括光致产酸剂，所述光致产酸剂能够在光照下分解形成光酸催化剂，所述光酸催化剂能够催化所述钛锆氧化物纳米粒子的团聚；和/或，所述光刻胶包括光引发剂，所述光引发剂能够引发所述钛锆氧化物纳米粒子的团聚。

7.根据权利要求1～5任一项所述的光刻胶，其特征在于，所述有机溶剂选自丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚、丙二醇单醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、氯仿及二氯甲烷中的任意一种或多种。

8.一种光刻胶的图案化方法，包括以下步骤：

将权利要求1～7任一项所述光刻胶涂布在基底表面，除去所述光刻胶中的有机溶剂，在所述基底表面上形成预成膜层；

将光源透过掩膜照射在所述基底的预成膜层上进行曝光操作，使得预成膜层的曝光区域形成钛锆氧化物纳米粒子团聚体；

将显影剂施加在曝光后的预成膜层上，使得预成膜层上被掩膜遮挡的未曝光区域溶解于显影剂中，而预成膜层的曝光区域由于形成钛锆氧化物纳米粒子而保留在基底上。

9.根据权利要求8所述的光刻胶的图案化方法，其特征在于，所述显影剂选自甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、均三甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、4-甲基-2-戊醇、4-甲基-2-戊酮、甲基乙基酮、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚、丙二醇单醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、2-丁酮、2-庚酮、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、正己烷及环己烷中的任意一种或多种。

10.根据权利要求8所述的光刻胶的图案化方法，其特征在于，所述曝光操作的曝光剂量为4mJ/cm²～1000mJ/cm²。

11.根据权利要求8所述的光刻胶的图案化方法，其特征在于，所述基底选自硅板。

12.生成印刷电路板的方法，其特征在于，包括如下步骤：

按照权利要求8～11任一项所述的光刻胶的图案化方法制备硅板基底上具有图案化光刻胶层的预图案化板材；

利用干法或湿法刻蚀所述预图案化板材。