[发明专利]一种半导体制造用清洗设备

权利要求书

1.一种半导体制造用清洗设备，包括两组支座(1)，其特征在于：所述支座(1)上端固接有清洗箱(2)，所述清洗箱(2)上端安装有盖板(3)，所述清洗箱(2)内部下侧设置有移动组件(4)，所述移动组件(4)上端连接有连接板(5)，所述连接板(5)上端设置有两个电动伸缩杆(6)，所述电动伸缩杆(6)伸缩端固接有放置板(7)，所述清洗箱(2)内腔顶部分别设置有第一处理箱(8)和第二处理箱(9)，所述第一处理箱(8)左右壁转动连接有两个第一转轴(10)，所述第一转轴(10)外壁设有清扫刷辊(11)，所述第一转轴(10)右端设置有驱动组件(12)，所述第二处理箱(9)内部设置有搅拌组件(13)，所述清洗箱(2)上壁连通有注水管(14)，所述清洗箱(2)底部连通有排水管(15)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体制造用清洗设备，其特征在于：所述移动组件(4)丝杆(401)，所述丝杆(401)转动连接于清洗箱(2)左右壁，所述清洗箱(2)左壁设有第一电机(402)，所述第一电机(402)输出端固接于丝杆(401)左端，所述丝杆(401)上螺接有两个螺母块(403)，所述连接板(5)固接于两个螺母块(403)上端，所述螺母块(403)下端固接有滑动块(404)，所述清洗箱(2)左右内壁之间固接有滑杆(405)，所述滑杆(405)滑动贯穿于两个滑动块(404)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体制造用清洗设备，其特征在于：所述驱动组件(12)包括带轮(1201)，所述带轮(1201)固接于第一转轴(10)右侧，两侧所述带轮(1201)之间传动连接有皮带(1202)，前侧所述第一转轴(10)右端还固接有第一直齿轮(1203)和第二直齿轮(1204)，所述第一处理箱(8)右壁设有第二电机(1205)，所述第二电机(1205)输出端固接有第三直齿轮(1206)，所述第三直齿轮(1206)与第一直齿轮(1203)啮合传动。

4.根据权利要求3所述的一种半导体制造用清洗设备，其特征在于：所述搅拌组件(13)包括第二转轴(1301)，所述第二转轴(1301)转动连接于第二处理箱(9)左右壁，所述第二转轴(1301)外壁设有多个搅拌叶(1302)，所述第二转轴(1301)左端固接有第四直齿轮(1303)，所述第四直齿轮(1303)与第二直齿轮(1204)啮合传动。

5.根据权利要求1所述的一种半导体制造用清洗设备，其特征在于：所述盖板(3)左端铰接于清洗箱(2)左壁上端，所述盖板(3)上端固接有拉手(16)。

6.根据权利要求1所述的一种半导体制造用清洗设备，其特征在于：所述放置板(7)上端设置有两个挡板(17)，所述放置板(7)面积不小于第一处理箱(8)和第二处理箱(9)的内壁开口面积。