[发明专利]一种半导体生产用检测装置在审

专利信息
申请号: 202011400309.1 申请日: 2020-12-03
公开(公告)号: CN112382585A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 方治玉;郭迅 申请(专利权)人: 格兰中村机电(苏州)有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 生产 检测 装置
【说明书】:

本发明专利公开了一种半导体生产用检测装置,包括下箱体、内箱体、伸缩柱和顶盖,伸缩柱固定安装于下箱体和顶盖之间,内箱体设置于下箱体的中部,内箱体的侧壁内嵌入有下夹持器,下夹持器的上部装配有上夹板,顶盖下表面的中部开设有通孔,顶盖下将封死内箱体,上部的导管口径大,可用于大量注入水汽等成分营造常规检测环境,下夹持器外侧的阀门可用于泄压,也可用于少量注入酸碱性气体,营造苛刻检测环境,对半导体设备进行多方面破坏性检测;该设备体积小,内部空间环境容易改变,消耗的物资较少,且顶盖封闭后,内部空间与外部隔绝,在操作不违规的前提下,能够保证检测用的腐蚀性气体不会泄露至空气中,保证工作人员的安全。

技术领域

本发明专利涉及半导体检测技术领域,具体为一种半导体生产用检测装置。

背景技术

半导体器件生产中,从半导体单晶片到制成最终成品,须经历数十甚至上百道工序。为了确保产品性能合格、稳定可靠,并有高的成品率,根据各种产品的生产情况,对所有工艺步骤都要有严格的具体要求。因而,在生产过程中必须建立相应的系统和精确的监控措施,首先要从半导体工艺检测着手。现有半导体的破坏性检测所使用的设备以罐状容器为主,这种容器不仅体积较大,且要对内部环境进行调整需要的周期较长,响应速度慢,导致检测效率低下。

发明专利内容

本发明专利的目的在于提供一种半导体生产用检测装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明专利提供如下技术方案:一种半导体生产用检测装置,包括下箱体、内箱体、伸缩柱和顶盖,伸缩柱固定安装于下箱体和顶盖之间,内箱体设置于下箱体的中部,所述内箱体的侧壁内嵌入有下夹持器,所述下夹持器的上部装配有上夹板,所述顶盖下表面的中部开设有通孔,且顶盖的上表面设有导管,所述导管于通孔相互连通。

优选的,所述下夹持器的外端设有阀门,所述阀门与内箱体相连通。

优选的,所述下箱体的外围开设有缺口。

优选的,所述下箱体的下表面均匀固定安装有角垫。

优选的,所述内箱体的上表面嵌入有环形密封条。

优选的,所述下夹持器与上夹板之间通过升降杆相连接。

优选的,所述内箱体内腔的下侧壁嵌入有支撑柱。

优选的,所述下夹持器的表面均粘贴有防滑垫。

与现有技术相比,本发明专利的有益效果是:一种半导体生产用检测装置,该设备的伸缩柱与外部液压设备相连接,通过液压系统控制伸缩柱的伸缩,工作人员将待检测半导体组件放置于内箱体内,通过下夹持器和上架板将半导体组件夹持固定在内箱体内,并通过液压系统控制伸缩柱收缩,顶盖下将封死内箱体,上部的导管口径大,可用于大量注入水汽等成分营造常规检测环境,下夹持器外侧的阀门可用于泄压,也可用于少量注入酸碱性气体,营造苛刻检测环境,对半导体设备进行多方面破坏性检测;该设备体积小,内部空间环境容易改变,消耗的物资较少,且顶盖封闭后,内部空间与外部隔绝,在操作不违规的前提下,能够保证检测用的腐蚀性气体不会泄露至空气中,保证工作人员的安全。

附图说明

图1为本发明专利的俯视结构示意图;

图2为本发明专利的仰视结构示意图。

图中:1箱体、2内箱体、3伸缩柱、4顶盖、5下夹持器、6上夹板、7防滑垫、8导管、9阀门、10支撑柱、11环形密封条、12缺口、13通孔、14升降杆、15角垫。

具体实施方式

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