[发明专利]一种改进型光学薄膜制备工艺

说明书

本发明提供了一种改进型光学薄膜制备工艺，包括：工艺室、蒸发器、下加热器；所述工艺室内部的底部设有蒸发器，且蒸发器与工艺室螺栓固定；所述工艺室内部的底部设有下加热器，且下加热器水平穿设在蒸发器上；所述工艺室内部的顶部设有基片，且基片与工艺室螺栓固定；所述工艺室内部的顶部设有上加热器，本发明具有降温功能，有利于材料的蒸汽沉积，提高了成膜效率，降低了工艺时长的优点，解决了光学薄膜在镀膜工艺中，工艺室内的基片温度会随着镀膜时间的推移而逐渐与工艺室内的温度持平，导致基片温度偏高，不利于材料的蒸汽在基片上沉积，降低了成膜效率，延长了工艺时长的问题。

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域，更具体的说，尤其涉及一种改进型光学薄膜制备工艺。

背景技术

光学薄膜泛指在光学器件或光电子元器件表面用物理化学等方法沉积的、利用光的干涉现象以改变其光学特性来产生增透、反射、分光、分色、带通或截止等光学现象的各类膜系。它可分为增透膜、高反膜、滤光膜、分光膜、偏振与消偏振膜等。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

光学蒸发真空镀膜机是光学薄膜制备工艺中的镀膜工艺机械，通过真空蒸镀法实现成膜，即在真空条件下的工艺室内通过加热使薄膜初始材料气化，材料的蒸汽沉积在温度较低的基片上，形成所需要的薄膜。在镀膜工艺中，工艺室内的基片温度会随着镀膜时间的推移而逐渐与工艺室内的温度持平，导致基片温度偏高，不利于材料的蒸汽在基片上沉积，降低了成膜效率，增加了工艺时长。

有鉴于此，针对现有的问题予以研究改良，提供一种改进型光学薄膜制备工艺，旨在通过该技术，达到解决问题与提高实用价值性的目的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种改进型光学薄膜制备工艺，以解决上述背景技术中提出的问题和不足。

为实现上述目的，本发明提供了一种改进型光学薄膜制备工艺，由以下具体技术手段所达成：

一种改进型光学薄膜制备工艺，包括：工艺室、蒸发器、下加热器、基片、上加热器、冷却管；所述工艺室内部的底部设有蒸发器，且蒸发器与工艺室螺栓固定；所述工艺室内部的底部设有下加热器，且下加热器水平穿设在蒸发器上；所述工艺室内部的顶部设有基片，且基片与工艺室螺栓固定；所述工艺室内部的顶部设有上加热器，且上加热器水平穿设在基片上；所述工艺室内部的顶部设有冷却管，且冷却管水平穿设在基片上。

作为本技术方案的进一步优化，本发明一种改进型光学薄膜制备工艺，所述蒸发器与基片上下相对应。

作为本技术方案的进一步优化，本发明一种改进型光学薄膜制备工艺，所述上加热器设在冷却管的上方。

作为本技术方案的进一步优化，本发明一种改进型光学薄膜制备工艺，所述冷却管的两端分别向外贯穿工艺室的左右两侧壁至外部，且冷却管处在基片内部的部分呈蛇形状，冷却管的两端接入外部的循环冷却管路，循环冷却管路图例中未画出，冷却介质流经冷却管时对基片进行降温，使基片温度低于工艺室内的温度，有利于材料的蒸汽沉积。

由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

1、本发明一种改进型光学薄膜制备工艺，通过设置冷却管的两端分别向外贯穿工艺室的左右两侧壁至外部，且冷却管处在基片内部的部分呈蛇形状，便于通过冷却管来降低基片的温度，使基片温度低于工艺室内的温度，有利于材料的蒸汽沉积，提高了成膜效率，降低了工艺时长。

2、本发明通过对光学薄膜镀膜工艺的改进，具有降温功能，有利于材料的蒸汽沉积，提高了成膜效率，降低了工艺时长的优点，从而有效的解决了本发明在背景技术一项中提出的问题和不足。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明的结构示意图；