[发明专利]一种搪瓷面釉磨加物的应用方法

权利要求书

1.一种搪瓷面釉磨加物的应用方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)制备磨加物，所述磨加物由废稀土抛光粉、硼砂以及高岭土组成；

2)将搪瓷面釉与磨加物按85～95：7～13的重量比混合；

3)将经过步骤2)混合后的物料加入球磨罐中，加入适量水，研磨5～7min后得到釉浆，将釉浆过筛备用；

4)将过筛后的釉浆调节浓稠度后，均匀搪涂在底釉净坯上，底釉净坯在200～300℃的条件下烘干水分后，放入马弗炉中以800～900℃的温度焙烧成搪瓷制品。

2.根据权利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的应用方法，其特征在于，所述步骤3)中，釉浆过筛时分别过140目筛和60目筛，取过60目筛的釉浆备用。

3.根据权利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的应用方法，其特征在于，所述磨加物中，废稀土抛光粉、硼砂与高岭土的质量比为1～3:5～7:1～3。

4.根据权利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的应用方法，其特征在于，所述搪瓷面釉与磨加物的质量比为90:10，所述磨加物中废稀土抛光粉、硼砂与高岭土的质量比为2:6:2。

5.根据权利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的应用方法，其特征在于，所述搪瓷面釉与磨加物的质量比为92:8，所述磨加物中废稀土抛光粉、硼砂与高岭土的质量比为2:5:1。

6.根据权利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的应用方法，其特征在于，所述废稀土抛光粉的电导率小于200μS/cm，且废稀土抛光粉中氧化硅含量85～92％、氧化铝含量0.5～1％、二氧化铈和氟化镧合计占比为5～10％。

7.根据权利要求6所述的搪瓷面釉磨加物的应用方法，其特征在于，所述废稀土抛光粉由氧化硅含量50～70％，氧化铝含量15～20％，稀土氧化物5～15％的废稀土抛光粉粗料为原料制备得到，制备方法包括如下步骤：

S1、将废稀土抛光粉粗料加水调浆，固体浓度为15～30％，进离心分离机选矿分离，按密度和颗粒大小分离后得到第一物料和第二物料，其中，所述第一物料为粒径为5μm以上粗颗粒和重物料，所述第二物料为粒径为5μm以下的细颗粒和轻物料；通过重选分离，第二物料的硅含量比第一物料的硅含量高30％以上，得到初步提纯；

S2、将S1中所述第二物料加入稀酸溶液中反应，所述第二物料中易溶的氧化铝、氧化镧溶解，而第二物料中氧化硅粉、二氧化铈和氟化镧留在低酸浸出渣中，反应完成后过滤，得到低酸滤液和低酸浸出渣；

S3、将S2中所述的低酸浸出渣中加入浓硫酸反应，加热温度到120～180度，低酸浸出渣中的二氧化铈、氟化镧、残留的少量铁及铝溶解进入溶液；再对该溶液进行过滤分离，得到含有氧化硅粉的高酸浸出渣，高酸浸出渣为所述搪瓷面釉磨加物的原料。