[发明专利]衬底处理装置

说明书

本发明涉及一种衬底处理装置。所有处理单元中，处理室、药液配管空间及排气室沿着搬送空间排列配置，且从搬送空间侧观察时，在处理室的一侧配置着药液配管空间，并以隔着处理室与药液配管空间对向的方式配置着排气室。由于排气室隔着处理室与药液配管空间对向配置，因此能够防止排气管妨碍配管通过的通路，所述配管是用来向保持在保持旋转部上的衬底供给药液。另外，以往是由2种处理单元构成，而本发明中通过1种处理单元即可解决。因此，能够使零件在所有处理单元中共通化。

技术领域

本发明涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置。关于衬底，例如可列举半导体衬底、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、光掩膜用玻璃衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底、太阳能电池用衬底等。FPD例如可列举液晶显示装置、有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等。

背景技术

以往的衬底处理装置，如图1或例如日本专利特开2014-197592号公报所示，具备移载传送部203及处理块211。移载传送部203具备载体载置部204及移载传送机构(机器人)206。在载体载置部204上载置对衬底W进行收容的载体C。移载传送机构206在载体载置部204上载置的载体C与处理块211之间搬送衬底W。处理块211具备衬底搬送机构(机器人)216及多个处理单元221。多个处理单元221在上下方向上以多级(例如2级)构成。

参照图2。在上下方向上为多级(例如2级)的各处理单元221中设置着排气口252。另外，在最上级的处理单元221的上方，设置着供酸系排气、碱系排气及有机系排气分别流动的3条分离的排气管281、282、283。排气管241的一端连接于处理单元221的排气口252，排气管241的另一端连接于排气切换装置251。排气切换装置251设置在最上级的处理单元221的上方，构成为将来自处理单元221的排气口252的排气分配至3条分离的排气管281、282、283(例如参照日本专利特开2019-016818号公报)。

发明内容

[发明要解决的问题]

但是，以往的衬底处理装置存在如下问题。例如，图2中，当上下方向上存在2级处理单元221时，2条排气管241以在纵方向上延伸至设置在上级(最上级)的处理单元221的上方的排气切换装置251的方式配置。图3是上级的处理单元221的示意性俯视图。处理单元221具备处理室223及配管部294。处理室223具备保持衬底W、且使所保持的衬底旋转的保持旋转部231。配管部294例如具备用来供给酸系、碱系及有机系药液的配管(未图示)、以及用于上级及下级的处理单元221的2条排气管241。

此处，2条排气管241与处理室223相邻配置以进行处理室223的排气。例如，增加处理单元221的级数，在上下方向上配置6个(6级)处理单元221。此情况下，在最上级的处理单元221的配管部294中，添加图3的虚线所示的4条排气管241，由此成为设置着6条排气管241。因此，6条排气管241成为障碍，例如图3的符号PT所示，用来向保持在保持旋转部231上的衬底W供给药液的配管通过的通路变窄。

另外，如图1的符号A、符号B所示，以往的衬底处理装置中，尽管是进行相同的药液处理，但却具备2种处理单元221。因此，必须得准备符号A所示的处理单元221用零件与符号B所示的处理单元221用零件，所以迫切期望零件共通化。

本发明是鉴于这种状况而完成的，其目的在于，提供一种防止排气管妨碍到配管通向处理室的通路，并且能够实现零件共通化的衬底处理装置。

[解决问题的技术手段]