[发明专利]一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺及其处理系统在审
| 申请号: | 202011337637.1 | 申请日: | 2020-11-25 |
| 公开(公告)号: | CN112340921A | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
| 发明(设计)人: | 朱化军;朱成;于平平;于飞芹 | 申请(专利权)人: | 江苏固环环境科技有限公司 |
| 主分类号: | C02F9/10 | 分类号: | C02F9/10;C01C1/16;C02F101/30 |
| 代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 黄永兰 |
| 地址: | 210000 江苏省南京市江北新区万寿*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 有机物 氯化 铵盐 废水 处理 工艺 及其 系统 | ||
1.一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,包括:
步骤一、均质混合;
步骤二、调节PH;
步骤三、紫外高级氧化;
步骤四、中和反应;
步骤五、单效蒸发;
步骤六、离心干燥;
步骤七、振动流化干燥。
2.根据权利要求1所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,还包括:
步骤一、均质混合:将高含有机物高含氯化铵盐废液均质混合;
步骤二、调节PH:调节步骤一得到的废液至PH=2~7;
步骤三、紫外高级氧化:将步骤二得到的废液氧化去毒;
步骤四、中和反应:在步骤三得到的废液中添加氨水进行中和反应,至废液PH=7~8~8;
步骤五、单效蒸发:包括1)一级预热,2)二级预热,3)蒸发;
步骤六、离心干燥:将步骤五得到的废液进行离心干燥,得到湿盐;
步骤七、振动流化干燥:将湿盐振动流化干燥,得到氯化铵结晶。
3.根据权利要求2所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,所述步骤一中高含有机物高含氯化铵盐废液的COD浓度为5~10万mg/l,氯化铵盐的质量含量为5~10%。
4.根据权利要求2所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,所述步骤三紫外高级氧化具体为:在照射强度为5~50mw/cm2、光波波长为254~280nm、反应温度为10~30℃的条件下投加氧化剂和催化剂进行氧化反应,反应时间为25~30min。
5.根据权利要求4所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,所述氧化剂为O3、H2O2、Fenton、硫酸盐中的一种或多种,所述催化剂为TiO2、Fe2O3、ZnO的一种。
6.根据权利要求5所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,所述氧化剂为H2O2,H2O2的质量分数为30%,投加量是0.6~3.0mmol/L。
7.根据权利要求2所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,所述步骤五单效蒸发包括:
1)一级预热:将步骤四得到的废液温度预热至35~45℃;
2)二级预热:将废液温度由35~45℃预热至55~65℃;
3)蒸发:蒸发温度为70~80℃,热源为蒸汽,蒸汽压力为180KPa,蒸汽温度为100℃。
8.根据权利要求2所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理工艺,其特征在于,所述步骤七振动流化干燥中,蒸汽压力为0.5MPa,进风温度为140~150℃,出风温度为45~85℃,反应时间为15~20min,出料温度为35~70℃。
9.一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理系统,其特征在于,包括前处理机构(1)、UV-AOP紫外氧化机构(2)、结晶机构(3)、尾气处理机构(4),所述前处理机构(1)输出端连接UV-AOP紫外氧化机构(2)的输入端,所述UV-AOP紫外氧化机构(2)的输出端连接结晶机构(3)的输入端。
10.根据权利要求9所述的一种高含有机物高含氯化铵盐废水的处理系统,其特征在于,所述前处理机构(1)包括废液储存罐(13)、均质混合罐(14),所述废液储存罐(13)输出端连接均质混合罐(14)输入端;
所述UV-AOP紫外氧化机构(2)包括PH调节槽(16)、UV模块(5)、中和反应罐(6),所述均质混合罐(14)输出端连接PH调节槽(16)输入端,所述PH调节槽(16)输出端连接UV模块(5)输入端,所述UV模块(5)输出端连接中和反应罐(6)输入端,所述PH调节槽(16)输入端还连接有酸储槽(7),所述UV模块(5)输入端还连接有氧化剂储存罐(8),所述中和反应罐(6)输入端还连接有氨水储槽(9);
所述结晶机构(3)包括单效蒸发器(10)、振动流化床(11),所述中和反应罐(6)输出端连接单效蒸发器(10)输入端,所述单效蒸发器(10)输出端连接振动流化床(11)输入端,所述振动流化床(11)输出端连接水膜除尘器(12);
所述尾气处理机构(4)包括二燃室(15),所述均质混合罐(14)、中和反应罐(6)输出端连接二燃室(15)输入端。
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