[发明专利]使用光伏源极的晶体管的反向本体偏置在审

专利信息
申请号: 202011331613.5 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112838856A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: F·卡克林 申请(专利权)人: 意法半导体(RD)有限公司
主分类号: H03K19/0175 分类号: H03K19/0175
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 罗利娜
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 使用 光伏源极 晶体管 反向 本体 偏置
【说明书】:

本公开的实施例涉及一种使用光伏源极的晶体管的反向本体偏置。金属氧化物半导体(MOS)晶体管具有源极端子、漏极端子、栅极端子和本体端子。源极端子被连接以接收电源电压,并且本体端子被连接以接收反向本体偏置电压。光伏电路具有被连接到MOS晶体管的源极端子的第一端子以及被连接到MOS晶体管的本体端子的第二端子。光伏电路将从环境接收的光子转换以生成反向本体偏置电压。

技术领域

发明涉及在数字电路中的晶体管的本体偏置,并且具体涉及数字电路晶体管的反向本体偏置的实现方式,其中反向本体偏置电压是使用能量收集源(诸如光伏电路)生成的。

背景技术

在本领域中众所周知的是,将本体偏置应用于金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的阱(本体)区域,以便影响晶体管沟道的特性。例如,被应用于阱的正向本体偏置(FBB)通过降低晶体管的阈值电压(Vt)来很好地影响设备的操作。由于以增加漏电流为代价地增加沟道电流,这导致更快的操作设备。相反,被应用于阱的反向本体偏置(RBB)通过增加晶体管的阈值电压(Vt)来很好地影响设备的操作。以降低速度为代价,这导致设备存在较低的漏电流。因此很清楚的是,电路设计者可以使用本体偏置选择来调制晶体管的阈值电压,从而在电路操作的功率与速度之间权衡。

存在对在超低电压电平处操作的电路逐渐增加的兴趣。例如,用于数字电路的等于或小于0.5V的电压电平现在在许多应用中变得常见,诸如面向物联网(IoT)的设备。对于数字电路,以暂停操作模式(诸如睡眠或深度睡眠)操作是很常见的,并且当处于这种模式时,降低在数字电路中的晶体管的漏电流是很重要的。

为了解决这个问题,电路设计者可以选择使用应用于晶体管阱(本体)的反向本体偏置(RBB)。在这些方案中,p沟道晶体管(pMOS)的本体被连接到产生电压(例如,Vdds)大于(即,更正)在晶体管电源处的电源电压(例如Vdd)的电压源,并且n沟道晶体管(nMOS)的本体被连接到产生电压(例如,Gnds)小于(即,更负)在晶体管电源处的电源电压(例如Gnd)的电压源。

如在图1中所示出的,使用具有串联耦合的pMOS晶体管12和nMOS晶体管14作为数字电路装置的CMOS数字逻辑反相器门10的示例,n阱偏置生成器电路16被用于生成反向本体偏置电压Vdds以应用于pMOS晶体管12的阱,该pMOS晶体管12的源极被连接给电源电压Vdd(其中VddsVdd),并且p阱偏置生成器电路18被用于生成反向本体偏置电压Gnds以应用于nMOS晶体管14的阱,该nMOS晶体管14的源极被连接给接地电压Gnd(其中GndsGnd)。n阱偏置生成器电路16通常是正电荷泵电路,并且p阱偏置生成器电路18通常是负电荷泵电路。该实现方式具有的问题是偏置生成器电路16和18的电荷泵电路会消耗来自电源电压Vdd的一定数量的功率开销。

本领域需要解决现有技术的反向本体偏置方案的缺点。

发明内容

在实施例中,电路包括:金属氧化物半导体(MOS)晶体管,具有源极端子、漏极端子、栅极端子和本体端子;其中源极端子被连接以接收电源电压;以及光伏电路,具有被连接到MOS晶体管的源极端子的第一端子以及被连接到MOS晶体管的本体端子的第二端子,其中光伏电路转换接收到的光子以生成应用于MOS晶体管的本体端子的反向本体偏置电压。

在实施例中,电路包括:金属氧化物半导体(MOS)晶体管,具有源极端子、漏极端子、栅极端子和本体端子;其中源极端子被连接以接收电源电压;以及能量收集电路,具有被连接到MOS晶体管的源极端子的第一端子以及被连接到MOS晶体管的本体端子的第二端子,其中能量收集电路收集能量以生成应用于MOS晶体管的本体端子的反向本体偏置电压。

附图说明

为了更好地理解实施例,现在将仅通过示例的方式参考附图,其中:

图1是使用电荷泵电路的具有晶体管阱的反向本体偏置的数字电路的框图;

图2是使用光伏电路的具有晶体管阱的反向本体偏置的数字电路的框图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于意法半导体(RD)有限公司,未经意法半导体(RD)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011331613.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top