[发明专利]一种亚波长介质光栅滤光片、液晶显示设备及其制备方法在审
申请号: | 202011321752.X | 申请日: | 2020-11-23 |
公开(公告)号: | CN112462462A | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 吕迅 | 申请(专利权)人: | 安徽熙泰智能科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B5/00;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京恒泰铭睿知识产权代理有限公司 11642 | 代理人: | 杨昊 |
地址: | 241000 安徽省芜湖市长江大桥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波长 介质 光栅 滤光 液晶显示 设备 及其 制备 方法 | ||
1.一种亚波长介质光栅滤光片,其特征在于,所述亚波长介质光栅滤光片包括:
氧化硅隔离层,置于已封装完成后的驱动电路基板上;以及
介质光栅层,置于所述隔离层上,且被配置为由高折射率介质经过光刻和刻蚀后得到,其中所述介质光栅层被配置为呈周期性图案。
2.根据权利要求1所述的亚波长介质光栅滤光片,其特征在于,所述高折射率介质被配置为通过下述任意一种材料的沉积形成:多晶硅、非晶硅、氧化铪、氮化硅、氮氧化硅、五氧化二钽、二氧化锆。
3.根据权利要求1所述的亚波长介质光栅滤光片,其特征在于,所述周期性图案包括以下阵列中任意一者:六边形阵列、正方形阵列;
并且,所述介质光栅层上的孔被配置为以下形状中任意一者:圆形、三角形、正方形、十字形。
4.一种亚波长介质光栅滤光片的制备方法,其特征在于,所述亚波长介质光栅滤光片的制备方法包括:
在封装完成后的驱动电路基板上沉积氧化硅隔离层;
在所述氧化硅隔离层上沉积高折射率介质;以及
对所述高折射率介质进行光刻和刻蚀,以得到亚波长介质光栅滤光片。
5.根据权利要求4所述的亚波长介质光栅滤光片的制备方法,其特征在于,所述在所述氧化硅隔离层上沉积高折射率介质包括:
在所述氧化硅隔离层上沉积下述任意一者:多晶硅、非晶硅、氧化铪、氮化硅、氮氧化硅、五氧化二钽、二氧化锆。
6.一种液晶显示设备,其特征在于,所述液晶显示设备包括权利要求1-3中任意一项所述的亚波长介质光栅滤光片。
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