[发明专利]隔垫物及其制备方法和显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种隔垫物，其特征在于，包括：

隔垫物主体，包括第一端与第二端，所述第一端与所述第二端相对；所述隔垫物主体的材料为弹性材料；

凹槽，位于所述隔垫物主体的第一端，所述第一端在受到来自所述第二端的压力时形成吸盘。

2.根据权利要求1所述的隔垫物，其特征在于，所述隔垫物主体的第一端的宽度小于所述隔垫物主体的第二端的宽度。

3.根据权利要求2所述的隔垫物，其特征在于，所述隔垫物主体的宽度自所述第二端向所述第一端逐渐减小。

4.根据权利要求1所述的隔垫物，其特征在于，所述隔垫物主体的高度为3.5微米～3.7微米，所述凹槽的深度为0.5微米～1.0微米。

5.根据权利要求1所述的隔垫物，其特征在于，所述隔垫物主体的第一端的宽度为15微米～20微米，所述凹槽的口径为4微米～6微米。

6.根据权利要求1所述的隔垫物，其特征在于，所述隔垫物主体的材料为负性光刻胶。

7.一种隔垫物的制备方法，其特征在于，用于制备权利要求1至6任一项所述的隔垫物，所述方法，包括：

形成弹性材料层；

对所述弹性材料层进行构图工艺，形成所述隔垫物。

8.根据权利要求7所述的隔垫物的制备方法，其特征在于，所述弹性材料层的材料为负性光刻胶；

所述对所述弹性材料层进行构图工艺，形成所述隔垫物，包括：

将掩膜版放置于所述弹性材料层上，所述掩膜版包括遮光区、第一透光区与第二透光区，所述第一透光区围绕所述第二透光区，所述遮光区围绕所述第一透光区，所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率；

对所述弹性材料层进行曝光、显影，得到所述隔垫物。

9.一种显示装置，其特征在于，包括：彩膜基板、阵列基板以及权利要求1至6任一项所述的隔垫物；

所述隔垫物位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间，且位于所述彩膜基板的黑矩阵上，所述第二端位于所述彩膜基板上。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述隔垫物包括第一隔垫物与第二隔垫物，所述第一隔垫物的高度大于所述第二隔垫物的高度，所述第一隔垫物的第一端与所述阵列基板接触，所述第二隔垫物的第一端与所述阵列基板之间存在间隙。

11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，所述第一隔垫物的高度与所述第二隔垫物的高度的差为0.65微米～0.8微米。

12.一种显示装置的制备方法，其特征在于，用于制备权利要求9所述的显示装置，所述方法，包括：

在所述彩膜基板上形成弹性材料层；

对所述弹性材料层进行构图工艺，形成所述隔垫物；

将所述彩膜基板与所述阵列基板进行对盒，得到所述显示装置。

13.根据权利要求12所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述隔垫物包括第一隔垫物与第二隔垫物，所述第一隔垫物的高度大于所述第二隔垫物的高度，所述第一隔垫物的第一端与所述阵列基板接触，所述第二隔垫物的第一端与所述阵列基板之间存在间隙；所述弹性材料层的材料为负性光刻胶；

所述对所述弹性材料层进行构图工艺，形成所述隔垫物，包括：

将掩膜版放置于所述弹性材料层上，所述掩膜版包括遮光区、第一透光区、第二透光区、第三透光区以及第四透光区，所述第一透光区围绕所述第二透光区，所述第一透光区的透光率大于所述第二透光区的透光率，所述第三透光区围绕所述第四透光区，所述第三透光区的透光率大于所述第四透光区的透光率，所述第一透光区的透光率大于所述第三透光区的透光率，所述遮光区围绕所述第一透光区与所述第三透光区；

对所述弹性材料层进行曝光、显影，得到所述隔垫物。