[发明专利]一种显影点的控制方法在审

专利信息
申请号: 202011300942.3 申请日: 2020-11-19
公开(公告)号: CN112816500A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 宋登洲;程磊;王京华 申请(专利权)人: 富力天晟科技(武汉)有限公司
主分类号: G01N21/956 分类号: G01N21/956
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 显影 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种显影点的控制方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一:定制图形,在CAM资料中的废料区域添加若干个“米”字图;

步骤二:图形转移,将“米”字图形通过曝光的方式转移到基材上;

步骤三:显影调节,以平时显影速度为中值,显影速度以0.1-0.2m/min递减及递增,每个显影速度各显影1-2pnl,显影后制得测试板;

步骤四:测量残留距,将步骤三显影后的测试板做氯化铜测试,百倍镜下量测板面“米”字图形尖角处未显影掉的基材到尖角的距离,氯化铜测试的目的在于增加铜面与未显影掉基材之间的对比度,便于量测;

步骤五:判断处理,步骤四测量的测试板若为正片,则电镀后切片;测试板若为负片,直接切片;

步骤六:挑选切片,从步骤五制得的切片中找出线路垂直度最好的相邻两个切片,其对应的显影速度即为该基材的最佳显影速度;

步骤七:循环检测,为确保准确度,重复以上步骤多做几次测试,则后续即以此距离为标准,确定最佳显影速度。

2.根据权利要求1所述的一种显影点的控制方法,其特征在于:步骤二中,基材为干膜或感光油墨。

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